[发明专利]触点内置型接触式液晶显示装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201110264321.9 申请日: 2011-09-07
公开(公告)号: CN102402034A 公开(公告)日: 2012-04-04
发明(设计)人: 佐佐木和广 申请(专利权)人: 卡西欧计算机株式会社
主分类号: G02F1/133 分类号: G02F1/133;G02F1/1368;G02F1/1339;G02F1/1333;G06F3/041
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 徐殿军
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 触点 内置 接触 液晶 显示装置 及其 制造 方法
【说明书】:

本申请基于2010年9月8日提出申请的日本专利申请第2010-201453号并主张其优先权,这里引用其全部内容。

技术领域

本发明涉及触点内置型接触式液晶显示装置及其制造方法。

背景技术

以往的触点内置型接触式液晶显示装置的构造通过特开2007-95044号公报已知。

以往的触点内置型接触式液晶显示装置如在图8及图9中将主要部分放大概略地图示那样,具备彼此平行对置配置的第1基板100和第2基板102。第1基板100及第2基板102分别是透明的玻璃制。

在第1基板100与第2基板102之间,夹着使第1基板100及第2基板102彼此平行离开而支撑的基板支撑构造104。

第1基板100和第2基板102在周缘部上经由框状的密封件接合,在作为第1基板100与第2基板102的间隙而被密封件包围的区域中封入有液晶140。

在第1基板100和第2基板102的各自的对置面上,形成有用来有选择地对它们之间的液晶140的希望的多个部位进行操作并有选择地调整这些希望的多个部位的光透射率的液晶操作构造。上述希望的多个部位称作像素,在第1基板100与第2基板102的各自的对置面间以矩阵状配置。

上述液晶操作构造包括:在第1基板100的对置面上、在与一方向(即在图8中是从左朝向右的方向或朝向其相反的方向,设为X方向)正交的另一方向(即在图8中是朝向上下的方向,设为Y方向)上、在以预先确定的间隔彼此离开的多个位置的每个上向上述一方向延伸的多个扫描线106;和在第1基板100的对置面上、在上述一方向上、在以预先确定的间隔彼此离开的多个位置的每个上向上述另一方向延伸的多个信号线108。

即,在第1基板100的对置面上多个扫描线106和多个信号线108以栅格状配置,液晶140的以上述矩阵状配置的、希望的多个像素位于上述栅格的间隙中。即,以栅格状配置的多个扫描线106和多个信号线108将液晶140的上述以矩阵状配置的、希望的多个像素包围。

上述液晶操作构造还包括在第1基板100的对置面上、对应于上述希望的多个像素以矩阵状配置的多个像素电极110。多个像素电极110分别由透明的导电性材料形成。

上述液晶操作构造还包括在第1基板100的对置面上、分别对应于多个像素电极110而配置的多个薄膜晶体管112。多个薄膜晶体管112分别与对应的像素电极110、邻接于对应的像素电极110的1个信号线108、和邻接于对应的像素电极110的1个扫描线106连接,通过来自上述1个扫描线106的信号控制从1个信号线108朝向对应的像素电极110的信号,从而控制对应的像素电极110的动作。

多个薄膜晶体管112与多个扫描线106、多个信号线108、以及多个像素电极110一起,通过相同的制造技术,同时形成在第1基板100的对置面上。

这里,多个扫描线106、多个信号线108、以及多个像素电极110,通过由薄膜晶体管112的制造技术提供的、包括多层绝缘膜的透明绝缘膜部分114而彼此电绝缘。在第1基板100的对置面上,多个像素电极110配置在透明绝缘膜部分114上。

此外,多个薄膜晶体管112各自的漏极电极112a、源极电极112b、还有栅极电极112c与对应的像素电极110、邻接于对应的像素电极110的1个信号线108、以及邻接于对应的像素电极110的1个扫描线106电连接。

在第2基板102的对置面上,形成有在第1基板100的对置面上以栅格状配置以使其包围液晶140的上述希望的多个像素的、与多个扫描线106和多个信号线108对应的栅格状的遮光膜116(所谓的黑罩(black mask))。

在第2基板102的对置面上,还对应于第1基板100的对置面上的多个像素电极110而以预先确定的排列形成有多个红色过滤器、绿色过滤器、及蓝色过滤器。

上述液晶操作构造还包括在第2基板102的对置面上覆盖栅格状的遮光膜116、多个红色过滤器、绿色过滤器、及蓝色过滤器的对置电极118。

以往的触点内置型接触式液晶显示装置具备设在第1基板100及第2基板102各自的对置面上、检测第2基板102的外侧面的接触位置的接触位置检测构造。

接触位置检测构造包括在第1基板100的对置面上沿着多个信号线108中的希望的多个信号线108延伸的X坐标检测线120、和在第1基板100的对置面上沿着多个扫描线106中的希望的多个扫描线106延伸的多个Y坐标检测线122。

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