[发明专利]生产多晶硅的方法有效
申请号: | 201110261807.7 | 申请日: | 2011-08-29 |
公开(公告)号: | CN102381709A | 公开(公告)日: | 2012-03-21 |
发明(设计)人: | M·舍费尔;O·克雷奇马尔 | 申请(专利权)人: | 瓦克化学股份公司 |
主分类号: | C01B33/03 | 分类号: | C01B33/03 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 过晓东 |
地址: | 德国*** | 国省代码: | 德国;DE |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 生产 多晶 方法 | ||
1.生产多晶硅的方法,其包括通过一个或多个喷嘴将反应气引入到反应器中,所述反应气包括含硅组分和氢气,所述反应器包括至少一个在其上沉积硅的加热细丝棒,其中阿基米德数Arn作为填充水平FL的函数描述反应器中的流动条件,FL表示棒体积相对空反应器体积的百分比例,对于至多5%的填充水平FL,所述阿基米德数Arn在下限由函数Ar=2000×FL-0.6限定而上限由函数Ar=17 000×FL-0.9限定的范围内,对于高于5%的填充水平,所述阿基米德数Arn为至少750~最高4000。
2.权利要求1的方法,其中阿基米德数下降到4.5~5.5%的填充水平,并在更高的填充水平时保持恒定。
3.权利要求1的方法,其中阿基米德数下降到6.5-7.5%的填充水平,然后保持恒定,并且从超过4.5%的填充水平开始比1~3%的填充水平时下降程度更大。
4.权利要求1的方法,其中阿基米德数下降到4.5~5.5%的填充水平,并且在更高的填充水平时上升。
5.权利要求1~4任一的方法,其中反应器体积由壁温为300K~700K的壁所限定。
6.权利要求1~4任一的方法,其中在面向反应器壁的至少一个棒的侧面上、并在该至少一个棒的长度的一半高度处测得的温度为1150K~1600K。
7.权利要求1~6任一的方法,其中硅沉积后从反应器中取出所述至少一个棒并进行机械加工产生硅块。
8.通过权利要求1~6任一的方法生产的多晶硅用于通过区熔生产单个硅晶体的用途。
9.通过权利要求1~7任一的方法生产的多晶硅用于通过使用Czochralski法晶体拉制生产单个硅晶体的用途。
10.通过权利要求1~7任一的方法生产的多晶硅用于通过块铸生产硅晶体的用途。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瓦克化学股份公司,未经瓦克化学股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110261807.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:金属氧化物半导体场效应晶体管及其制作方法
- 下一篇:一种移动设备