[发明专利]用于涂覆工件的装置有效

专利信息
申请号: 201110257036.4 申请日: 2011-08-24
公开(公告)号: CN102431265A 公开(公告)日: 2012-05-02
发明(设计)人: J·施密德;A·佩特拉克 申请(专利权)人: 豪迈木加工系统股份公司
主分类号: B32B37/00 分类号: B32B37/00;B32B38/18;B27D5/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 严志军;杨国治
地址: 德国绍*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 用于 工件 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种用于以涂覆材料涂覆工件的装置,其中,工件尤其由木材、木料、塑料等制成。在此,供给装置供给涂覆材料,活化区域联接到供给装置处,在活化区域中涂覆材料被活化。集成到该装置中的压紧装置按压活化的涂覆材料以应用到待涂覆的工件表面上。

此类装置适于使用在木材加工、尤其家具业和组件业中。

背景技术

此类涂覆装置例如被用于以带状的狭长面涂覆材料涂覆工件。这种装置由文件WO 01/36168A1已知。该文件公开了一种用于将涂覆材料涂到工件的狭长面上的装置和方法。另外,涂覆材料借助供给装置由轧辊被连续地供给给涂覆过程。在该经过式工艺(Durchlaufverfahren)的情况中,涂覆材料首先被活化且紧接着活化的表面被带到与工件的待涂覆的表面相接触。在此,压紧装置支持在涂覆材料与工件之间的接触。此外,压紧装置补偿与最佳的工件取向的较小的偏差。

在该装置中,工件被引导连续地通过涂覆装置。因此,它尤其适合于具有长的、直的和窄的表面的工件。此类工件对于涂覆过程可相对涂覆装置最佳地取向,这对于高品质的涂覆是重要的前提条件。

如果工件出于美观和/或功能性的原因具有待涂覆的表面,其至少在平面中不再笔直地延伸(例如弧形的走向),则压紧装置的作用区域不再足以将涂覆材料连续地压紧到工件的待涂覆的表面处。

此类涂覆装置可总是涂覆仅一个狭长面。如果还期望涂覆其它的狭长面,则多次涂覆过程是必需的,在涂覆过程之间工件每次重新取向且再次被供给给涂覆装置。特别对于小批量这是昂贵的。

发明内容

因此,本发明的目在于如此设计一种涂覆装置,即,它在工件的较大的轮廓偏差的情况下也使得高品质的涂覆成为可能。在此,不仅涉及到补偿由于制造引起的与理想形状的偏差,而且还补偿偏离平坦表面的、待涂覆的工件表面的美观和/或功能性所要求的轮廓。

该目的通过带有权利要求1的特征的本发明来实现。根据本发明的装置的有利的设计方案由从属权利要求得出。

本发明基于如下思想,即,在涂覆过程期间连续地调节工件与涂覆装置之间的相对间距。

在根据本发明的装置中集成有用于涂覆工件所必需的装置的至少一部分。供给装置将涂覆材料供给给活化区域。在活化区域之后存在用于将涂覆材料连续地应用到待涂覆的工件表面上的压紧装置。为了对于有轮廓的工件表面也确保在涂覆材料与工件表面之间的接触,至少活化区域与压紧装置一起和工件在涂覆过程期间在至少一个运动平面中可彼此相对移动和/或旋转。在此,存在多种可能性来实施工件与涂覆装置彼此的相对运动,使得涂覆装置可跟随待涂覆的工件表面的可能的形变。因此可想到的是,仅引导工件通过旋转和平移经过位置固定的涂覆装置(经过式技术),或仅移动涂覆装置,使得此处位置固定的工件在进行涂覆期间例如在周围行过(静止式技术)。然而,也可存在如下情况(例如在工件几何形状复杂的情况下),即,使不仅工件而且涂覆装置彼此移动是有利的。

在根据本发明的装置的一个优选的设计方案中,该装置具有在活化区域中活化涂覆材料的能量源。在能量源与涂覆材料之间存在用于传输由能量源发出的以辐射形式的能量的元件。该元件在装置的活化区域内将辐射导引到覆层上,以便因此活化覆层。就此而论,覆层的活化例如可意味着,至少部分的在涂覆材料中天生存在的特性如附着性通过辐射开始起作用。同样地可能的是,施加到涂覆材料上的层的至少一部分通过辐射例如充当粘合层。在一个特别优选的实施形式中,激光射线传输对于活化涂覆材料所必需的能量。

在根据本发明的装置的一个特别优选的设计方案中,围绕活化区域至少部分地存在能量收集器。能量收集器包括至少一个流入孔和/或流出孔,以便一方面将能量和涂覆材料引导到活化区域中而另一方面传输活化的涂覆材料以涂覆工件表面。当辐射从外被导入到装置中时,用于辐射的流入孔那么优选地是能量收集器的一部分。借助能量收集器避免了充满能量的活化辐射不期望地流出到环境中且因此提高了涂覆装置的操作安全性。

在另一实施形式中,能量收集器的内侧的至少一个面向涂覆材料的截段凹形地或凸形地来构造。能量收集器的该设计方案优选地也可充当用于涂覆材料的工作面(Laufflaeche)。在此,涂覆材料优选地至少沿着能量收集器的内侧的凹形的或凸形的构造的顶点移动。此外,该截段优选地如此凹形地或凸形地构造,即,对于在活化区域中的辐射(尤其散射辐射),至每个流入孔和/或流出孔的直接路径被禁止。环境的危害因此被限制到最低。此外,由此确保,辐射仅在活化区域中起作用而基本不在活化区域之外以不受控制的方式影响涂覆材料的活化状态。

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