[发明专利]适用电磁炉的锅具结构及其表面处理方法无效
申请号: | 201110256246.1 | 申请日: | 2011-09-01 |
公开(公告)号: | CN102349788A | 公开(公告)日: | 2012-02-15 |
发明(设计)人: | 解叶峰;黄万顺 | 申请(专利权)人: | 解叶峰;黄万顺 |
主分类号: | A47J27/00 | 分类号: | A47J27/00;B32B15/04;B32B15/20 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 王敏杰 |
地址: | 中国台湾台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 适用 电磁炉 结构 及其 表面 处理 方法 | ||
技术领域
本发明系一种适用电磁炉的锅具结构及其表面处理方法,尤指一种使非铁磁锅具可适用于电磁炉,同时具有良好的导热效率的锅具结构及其表面处理方法。
背景技术
按,电磁炉是一种利用电力来烹调食物的器具,电磁炉于使用时,炉具本身并不会发热,而是利用电磁感应加热原理使放置食物的锅具发热,藉以对食物进行加热,而由于热量系由锅具本体发出,所以不会像其它炉具以火力燃烧时使四周环境温度提高,其具有较高的安全性,且由于没有燃烧过程,电磁炉不易产生有毒的气体,没有碳粒产生,电磁炉炉面也较容易清洁。
电磁炉系利用电磁感应加热原理来使得锅具发热,电磁炉炉具内包括有线圈,以交流电通过线圈即会形成以交流变化的磁场,而当磁场通过铁磁体的锅具底部时,磁场与铁磁体的锅具底部会产生感应而出现涡流电流(Eddy Current),此涡流电流即利用大电流的短路热效应来产生热量。
所谓的铁磁体锅具一般指可以被磁化的金属,例如铁、钢等材料所作成的锅具,然,并非所有非铁磁体锅具都无法使用于电磁炉,若使用非铁磁体锅具则由于无法完整与磁场感应出现涡流电流,则其产生的热量不足以烹煮食物,且会造成能源的浪费。
再者,陶瓷锅具、铝锅具或是玻璃锅具等非铁磁体锅具即为不适用于电磁炉的锅具,但由于陶瓷锅具有闷煮、保温、保留原味以及不易流失水分的效果,中药或是某些料理一般都会使用陶瓷锅具来进行烹煮,并不建议使用铁或是钢锅具来烹煮,若要烹煮中药,仅能使用明火炉具来烹煮,造成了不方便。
是以,要如何解决上述习用的问题与缺失,即为本发明的发明人与从事此行业的相关厂商所亟欲研究改善的方向所在者。
发明内容
故,本发明的发明人有鉴于上述缺失,乃搜集相关资料,经由多方评估及考虑,并以从事于此行业累积的多年经验,经由不断试作及修改,始设计出此种使非铁磁锅具可适用于电磁炉的锅具结构及其表面处理方法发明专利者。
本发明的第一目的在于提供一种适用于电磁炉的锅具结构。
为了达到上述的目的,该锅具结构包括锅具、铝材层、镍铜合金层以及保护层。该铝材层设置于该锅具底部外表面;该镍铜合金层设置于该铝材层上;以及该保护层设置于该镍铜合金层上。
本发明的第二目的在于提供一种适用于适用电磁炉的锅具表面处理方法。
为了达到上述的目的,该锅具表面处理方法包括提供一锅具;形成一铝材层于该锅具底部外表面;形成一镍铜合金层于该铝材层上;以及形成一保护层于该镍铜合金层上。
藉由上述锅具结构及其表面处理方法,由于本发明包括有铝材层以及镍铜合金层,当磁场通过锅具底部的铝材层以及镍铜合金层时,磁场与锅具底部的铝材层以及镍铜合金层会产生感应而出现涡流电流(Eddy Current),此涡流电流即利用大电流的短路热效应来产生热量,藉此,针对了习用技术非铁磁体锅具无法适用于电磁炉加以突破,本发明可以使非铁磁锅具可适用于电磁炉,同时,具有良好的加热效率,使得电磁炉具有更多的应用,为确实具有实用进步性。
附图说明
图1系为本发明较佳实施例的立体图。
图2系为本发明较佳实施例的剖视图一。
图3系为本发明较佳实施例的剖视图二。
图4系为本发明较佳实施例的流程图。
【主要组件符号说明】
1锅具
11凸缘
111凸缘高度
12缺口
13铝材层
14镍铜合金层
15保护层
(110)~(140)步骤。
具体实施方式
为达成上述目的及功效,本发明所采用的技术手段及构造,兹绘图就本发明较佳实施例详加说明其特征与功能如下,俾利完全了解。
请参阅图1、图2与图3所示,系为本发明较佳实施例的立体图、剖视图一与二,由图中可清楚看出,本发明适用电磁炉的锅具1结构包括:
锅具1,该锅具1为陶瓷锅,以使用安全的角度考虑,陶瓷锅坯体中可含有40%以上的锂辉石成分,且该陶瓷锅坯体在1260至1320℃的温度条件下烧成,该锅具1底部设置有至少一凸缘11,该凸缘高度111为4㎜至6㎜,并且该锅具1底部藉由该凸缘11的设置形成有至少一缺口12,以供锅具1使用时的散热,于本实施例中,该凸缘11设置为四个,同时该锅具1底部藉由该凸缘11的设置形成有四个缺口12;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于解叶峰;黄万顺,未经解叶峰;黄万顺许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110256246.1/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。