[发明专利]键合铜丝在生产过程中的表面处理技术无效
申请号: | 201110238902.5 | 申请日: | 2011-08-19 |
公开(公告)号: | CN102263038A | 公开(公告)日: | 2011-11-30 |
发明(设计)人: | 张若京;宋东升;张富尧 | 申请(专利权)人: | 张若京 |
主分类号: | H01L21/48 | 分类号: | H01L21/48 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 230011 安徽省*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 铜丝 生产过程 中的 表面 处理 技术 | ||
1.键合铜丝在生产过程中的表面处理技术,特征是是在键合铜丝表面处理过程中,采用电子脉冲在铜丝的表面上浸镀一层薄而密的钯金复合镀层,提高其防氧化性和焊接性。
2.根据权利要求1所述的键合铜丝在生产过程中的表面处理技术,其特征键合铜丝生产工艺流程为:第一步,采用真空度为10-104MPa高真空炉将纯度高于99.995%高纯铜熔化,升温到1100~1180℃,精炼60~120分钟,采用定向凝固方式拉制Φ4~Φ8mm单晶铜杆;第二步,将拉制成的高纯度单晶铜杆冷加工至Φ0.95~Φ1.102mm,每道次拉拔加工率为15~25%,拉拔速度控制在40~60m/min;然后分为47~70个道次,采用每道次加工率为7.59~17.82%将单晶铜杆拉至Φ0.018~Φ0.02mm;拉制速度为400~600m/min;0.5mm以上模具表面粗糙度Ra为0.025,0.5mm以下模具表面粗糙度Ra高于0.025;保持拉丝塔轮、导向轮、收线盘等部件高度光洁,表面粗糙度Ra高于0.025;拉丝润滑剂采用水溶性润滑剂,浓度为0.4~0.8%,拉丝时温度为35~45℃;第三步,将上步骤拉制成的单晶铜键合引线表面清洗采用超声波清洗,清洗介质采用无水酒精,超声波功率40~80W,频率20~40KHz;第四步,将清洗后的单晶铜键合引线在退火复绕设备上进行热处理,其热处理温度为410~425℃,热处理时间为0.7~2.0s,退火复绕时的张力为0.6~2.8g;第五步,采用电子脉冲在铜丝的表面上浸镀一层薄而密的钯金复合镀层,提高其防氧化性和焊接性;保证焊接时镀层易打开,焊接后电子扩散对称,不产生偏移;第六步,复绕成品、包装,将热处理后的单晶铜键合引线采用真空吸塑包装,真空度为10-3~10-4Mpa。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
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