[发明专利]基于芴结构的可溶性功能聚酰亚胺及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201110207345.0 申请日: 2011-07-22
公开(公告)号: CN102352039A 公开(公告)日: 2012-02-15
发明(设计)人: 张艺;刘亦武;许家瑞;秦泽鑫;陈亮辉;兰麒;刘四委;池振国 申请(专利权)人: 中山大学
主分类号: C08G73/10 分类号: C08G73/10;C08J5/18;C09K11/06
代理公司: 广州新诺专利商标事务所有限公司 44100 代理人: 周端仪
地址: 510275 *** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 结构 可溶 性功能 聚酰亚胺 及其 制备 方法 应用
【说明书】:

技术领域

本发明涉及材料科学领域,特别是一种基于芴结构的可溶性功能聚酰亚胺及其制备方法和应用。

技术背景

聚酰亚胺是目前已经工业化的工程塑料中耐热性能最好的品种之一,具有其他材料无法比拟的突出性能,如机械强度高、耐高低温性好、介电性优异、成膜性能好等等。自六十年代美国的杜邦公司开发产业化以来,它已在各个领域得到应用,尤其在航天、航空、微电子和军工领域应用更多。由于聚酰亚胺一般不溶于有机溶剂,所以,通常用溶解性良好的前躯体聚酰胺酸来进行加工,然后再进行脱水闭环的亚胺化处理获得聚酰亚胺。但是,聚酰胺酸对水份较为敏感,不能长期储存;且亚胺化后的聚酰亚胺表现为不溶不熔的特点,这些都在某些程度上限制了它的应用。另一方面,随着微电子科技的发展,电子元器件的“轻、薄、短、小”化发展对材料提出了更高的要求,相比无机材料,高性能聚酰亚胺材料由于其低成本、轻质高强、优良的成膜性、优异的综合性能以及结构柔韧性、可三维堆集等优点,在现代微电子领域显示出突出的应用前景;特别是其具有优异的结构可设计性,可通过共聚单体的结构设计,引入功能性基团,赋予聚酰亚胺一定的光电性能,因此,开发具有良好加工性能的新型高性能、功能化聚酰亚胺逐渐成为聚酰亚胺研究的重要组成部分和研究方向。

到目前为止,解决聚酰亚胺可溶性的途径主要有三种:(1)采用含氟单体来合成含氟聚酰亚胺;(2)采用具有大空间位阻基团的单体合成聚酰亚胺,破坏主链的刚直链结构和分子间的相互作用力;(3)采用脂环族单体合成半芳香族或非芳香族聚酰亚胺。第一种方法由于含氟单体价格高,所以限制了应用面;第三种方法品种少,价格也贵,耐热性有所降低;第二种方法单体易得,价格适中,制品性能可达到预期目标,因此目前被普遍采用。如专利CN200910216217.5、CN200910049450.9、CN02111080.8等。然而,所涉及到的二胺单体都不具备大共轭的空间结构,并且没有聚集诱导发光的性能。

功能化聚酰亚胺的研究近几年开始得到人们的重视。国内四川大学顾宜教授课题组较早开展聚酰亚胺侧链功能化的研究(如专利CN1218999C、CN1164715C等),制备可加工性强、高强、高模、高尺寸稳定性的聚酰亚胺薄膜。最近两年基于含三苯胺结构的可溶性功能化聚酰亚胺由于其所具有的独特电阻开关效应,在聚合物存储材料的应用中显示出诱人的应用前景,引起了这一领域研究人员的重视,然而,功能聚酰亚胺的开发研究仍处于起步阶段,品种较为单一,其功能也有待进一步深入开发。

发明内容

本发明的目的是提供一种基于芴结构的可溶性功能聚酰亚胺,其具有优越可溶解性、热稳定性、优异力学性能和光致发光等性能。

本发明的另一目的在于提供上述基于芴结构的可溶性功能聚酰亚胺的制备方法,其工艺简单且多样,条件要求低,适于工业生产。

本发明还有一个目的在于提供上述基于芴结构的可溶性功能聚酰亚胺的应用,应用于光致发光产品制备。

本发明的目的是这样实现的:一种基于芴结构的可溶性功能聚酰亚胺,其结构通式为:

其中:n为1~10000,X为四价的芳香族烃基,Y为I、II、III结构通式所示基团中的一种或一种以上:

其中,Ar1和Ar2选自下列结构式中的任何一种:

Ar3和Ar4选自下列结构式基团中的任何一种:

上述基于芴结构的新型可溶性功能聚酰亚胺的制备方法,其特征在于:氩气气氛中,将含Y结构的二胺与含X结构的二酐按摩尔比为1∶(0.9~1.1)溶在极性非质子有机溶剂中,在-10~40℃搅拌反应0.5~72h,得到聚酰胺酸溶液,然后进行酰亚胺化得到可溶性的聚酰亚胺材料。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山大学,未经中山大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110207345.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top