[发明专利]一种腔内倍频激光器的激光晶体结构无效

专利信息
申请号: 201110206095.9 申请日: 2011-07-22
公开(公告)号: CN102299467A 公开(公告)日: 2011-12-28
发明(设计)人: 王云征;王静轩;张丽强;卓壮 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: H01S3/07 分类号: H01S3/07
代理公司: 济南圣达知识产权代理有限公司 37221 代理人: 王立晓
地址: 250061 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 倍频 激光器 激光 晶体结构
【权利要求书】:

1.一种腔内倍频激光器的激光晶体结构,包括多个层结构,其特征是,依次为入射端的光学介质膜层、未掺杂晶体层、掺杂晶体层、未掺杂晶体层、倍频晶体层和输出端的光学介质膜层。

2.根据权利要求1所述的腔内倍频激光器的激光晶体结构,其特征是,未掺杂晶体层、掺杂晶体层、未掺杂晶体层、倍频晶体层厚度依次为0.1-6mm,0.1-30mm,0.1-6mm,0.1-6mm。

3.根据权利要求1所述的腔内倍频激光器的激光晶体结构,其特征是,所述的掺杂晶体层和倍频晶体层通过光胶粘合在一起。

4.根据权利要求1所述的腔内倍频激光器的激光晶体结构,其特征是,所述的未掺杂晶体层和掺杂晶体层的基质晶体是同种晶体或不同种晶体,分别选自YAG晶体、YVO4晶体、GdVO4晶体、YAP晶体、YLF晶体中的一种。

5.根据权利要求1或4所述的腔内倍频激光器的激光晶体结构,其特征是,所述的掺杂晶体层的掺杂离子选自Nd3+,Er3+,Ho3+,Ce3+,Tm3+,Pr3+,Gd3+,Eu3+,Yb3+,Sm2+,Dy2+,Tm2+,Cr3+,Ni2+,Co2+,Ti3+,V2+中的一种。

6.根据权利要求1所述的腔内倍频激光器的激光晶体结构,其特征是,所述的倍频晶体层选自KTP晶体、LBO晶体、BBO晶体、LiNbO3晶体中的一种。

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