[发明专利]一种印制线路板蚀刻废液循环再生及铜提取工艺有效

专利信息
申请号: 201110195676.7 申请日: 2011-07-13
公开(公告)号: CN102251244A 公开(公告)日: 2011-11-23
发明(设计)人: 徐志刚;汤启明;邹潜 申请(专利权)人: 重庆浩康医药化工集团有限公司
主分类号: C23F1/46 分类号: C23F1/46;C22B7/00;C22B3/26;C22B15/00
代理公司: 重庆市前沿专利事务所 50211 代理人: 郭云
地址: 401121 重庆市渝北区北*** 国省代码: 重庆;85
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摘要:
搜索关键词: 一种 印制 线路板 蚀刻 废液 循环 再生 提取 工艺
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种印制电路板所产生化工溶液的循环再生的工艺,特别涉及

从印制电路板蚀刻废液中提取铜并使蚀刻废液循环再生的方法。

背景技术

萃取→反萃→电积工艺常用于印制电路板蚀刻废液的处理。这是因为它在回收金属铜的同时,能够使蚀刻液得以再生。整个工艺过程在理想状态下不会产生任何废物。其中萃取→反萃单元又是该工艺过程是否成功的关键。传统的萃取→反萃单元包括萃取、洗涤、反萃等单元操作,它们分别在不同的萃取设备中进行。这就要求这些设备协同运作,任何一个设备出现异常,都会造成整个工艺运行失败。因此,工艺设计复杂,对工艺参数也有严格的要求。这就间接地增加了萃取设备的设计要求。总体来说,传统的萃取→反萃流程存在着造价高、对运行条件的要求高、工艺控制复杂、运行可靠性和稳定性低等缺点。除此之外,传统的萃取设备,不论是混合澄清槽,还是离心萃取器,对萃取剂的分相时间要求都很高。还需要特殊的设计排放萃取过程中产生的乳化层和界面污物,这就进一步增加了装置的运行成本和维护成本。

本发明将萃取、洗涤、反萃等单元操作放在同一个设备中进行,减小了工艺的复杂性,提高运行的灵活性、稳定性和可靠性。采用搅拌釜来完成萃取、洗涤和反萃等单元操作,降低了设备的造价和维护成本。

发明内容

为解决以上技术问题,本发明的目的在于提供一种操作容易、工艺简单、环保的印制线路板蚀刻废液循环再生及铜提取工艺。

本发明的目的是通过如下步骤实现的:

(1)将第一储槽(H1)中含铜离子浓度为5.0g/L~180.0g/L的废蚀液经第一过滤器(g1)过滤,除去固体杂质后的废蚀液存放于第二储槽(H2)中;

(2)将第二储槽(H2)内的废蚀液转入萃取釜(A)中,再加入Mextral PCB-2011型油性铜萃取剂,搅拌混合,充分萃取,然后静置分层;

(3) 分液,萃取釜(A)内上层负载铜的有机相留于釜中备用,下层经处理后的废蚀液放入第三储槽(H3)中,经检验分析合格后通过第二过滤器(g2)过滤除杂后再补加蚀刻液所需成分即得再生蚀刻液;

(4)将第六储槽(H6)中的洗液加入到步骤(3)所得的上层负载铜的有机相中,搅拌洗涤,然后静置分层,分液,上层负载铜有机相留于釜中,下层洗液返回第六储槽(H6)。

(5)将第七储槽(H7)中浓度为10~250g/L的硫酸溶液加入到步骤(4) 萃取釜(A)中所得的上层负载铜有机相中,搅拌混合进行反萃,然后静置分层;

(6)分液,上层有机相即萃取剂留于萃取釜(A)中待处理,将下层硫酸铜溶液转入储槽(H8)中,分析检测溶液中硫酸铜的浓度,达标合格后经由第三过滤器(g3)过滤,除去油性杂质,所得滤液进入电解池(H9)电解即得含量超过99.99%的阴极铜;

(7)随时取样检测电解池(H9)中硫酸铜的浓度,当其低于20g/L时,电解液变为贫铜硫酸溶液,将该溶液放出并返回硫酸储槽(H7)中循环使用; 

(8)将第六储槽(H6)中的洗液再加入到步骤(6)所述的上层有机相即萃取剂中,搅拌洗涤,然后静置分层;

(9)分液,下层洗液返回第六储槽(H6)中循环使用,上层有机相即萃取剂可以进入下一轮萃取循环使用。在操作中只需要控制好每个步骤完成后所得溶液的标准,一步步进行就能保证整个工艺的完成。相对以前每一个步骤时间、参数、加入其他物质的量都需要严格控制,操作更加简单。同时废液回收循环再利用,减少了污染,也即降低了排污的成本,另外重新利用也减少了所需的原料,也节约了原料成本。

上述步骤(1)~(9)之间为歇性操作;每个步骤对物料的处理均在密闭体系里进行。无刺激性气体泄漏,无有毒有害液体的排出,对环境友好。

步骤(2)中上述萃取釜(A)的容量范围为0.1吨~30吨。

步骤(2)中上述Mextral PCB-2011,为属于酸性萃取剂的Mextral PCB-2011a,或属于碱性萃取剂的Mextral PCB-2011b。

步骤(2)中加入的废蚀液与Mextral PCB-2011油性萃取剂的体积比为:VM2:VMextral=1.0~3.0:3.0~1.0。

步骤(2)中搅拌混合的时间为5~120分钟,搅拌转速为50~1000转/分钟,静置时间为5~120分钟。

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