[发明专利]一种印制线路板蚀刻废液循环再生及铜提取工艺有效
| 申请号: | 201110195676.7 | 申请日: | 2011-07-13 |
| 公开(公告)号: | CN102251244A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
| 发明(设计)人: | 徐志刚;汤启明;邹潜 | 申请(专利权)人: | 重庆浩康医药化工集团有限公司 |
| 主分类号: | C23F1/46 | 分类号: | C23F1/46;C22B7/00;C22B3/26;C22B15/00 |
| 代理公司: | 重庆市前沿专利事务所 50211 | 代理人: | 郭云 |
| 地址: | 401121 重庆市渝北区北*** | 国省代码: | 重庆;85 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 印制 线路板 蚀刻 废液 循环 再生 提取 工艺 | ||
1.一种印制线路板蚀刻废液循环再生及铜提取工艺,其特征在于按如下步骤进行:
(1)将含铜离子浓度为5.0g/L~180.0g/L的废蚀液经过滤,除去其中的固体杂质得到除杂废蚀刻液;
(2)将除杂废蚀刻液转入萃取釜(A)中,再加入Mextral PCB-2011型油性铜萃取剂,搅拌混合,充分萃取,然后静置分层;
(3) 分液,萃取釜(A)内上层负载铜的有机相留于釜中备用,下层废蚀液放入第三储槽(H3)中,经检验分析合格过滤除杂后再补加蚀刻液所需成分即得再生蚀刻液;
(4)在萃取釜(A)所得的上层负载铜的有机相中加入第六储槽(H6)的洗液,搅拌洗涤,然后静置分层,分液,上层负载铜有机相留于釜中,下层洗液返回第六储槽(H6)循环使用;
(5) 再次于萃取釜(A)所得的上层铜负载有机相中,加入第七储槽(H7)中浓度为10~250g/L的硫酸溶液,搅拌混合进行反萃,然后静置分层;
(6)分液,上层有机相即萃取剂留于萃取釜(A)中待处理,将下层硫酸铜溶液转入储槽(H8)中,分析检测溶液中硫酸铜的浓度,达标合格后经滤,除去油性杂质,所得滤液进入电解池(H9)电解即得含量超过99.99%的阴极铜;
(7)随时取样检测电解池(H9)中硫酸铜的浓度,当其低于20g/L时,电解液变为贫铜硫酸溶液,将该溶液放出并返回硫酸储槽(H7)中循环使用;
(8)将第六储槽(H6)中的洗液再加入到步骤(6)所述的上层有机相即萃取剂中,搅拌洗涤,然后静置分层;
(9)分液,下层洗液返回第六储槽(H6)中循环使用,上层有机相即萃取剂可以进入下一轮萃取循环使用。
2.根据权利要求1所述一种印制线路板蚀刻废液循环再生及铜提取工艺,其特征在于:所述步骤(1)~(9)之间为歇性操作;每个步骤对物料的处理均在密闭体系里进行。
3.根据权利要求1所述一种印制线路板蚀刻废液循环再生及铜提取工艺,其特征在于:步骤(2)中所述萃取釜(A)的容量范围为0.1吨~30吨。
4.根据权利要求1所述一种印制线路板蚀刻废液循环再生及铜提取工艺,其特征在于:步骤(2)中所述Mextral PCB-2011,为属于酸性萃取剂的Mextral PCB-2011a或属于碱性萃取剂的Mextral PCB-2011b。
5.根据权利要求1所述一种印制线路板蚀刻废液循环再生及铜提取工艺,其特征在于:步骤(2)中加入的废蚀液与Mextral PCB-2011油性萃取剂的体积比为: 1.0~3.0:3.0~1.0。
6.根据权利要求1所述一种印制线路板蚀刻废液循环再生及铜提取工艺,其特征在于:步骤(2)中搅拌混合的时间为5~120分钟,搅拌转速为50~1000转/分钟,静置时间为5~120分钟。
7.根据权利要求1所述一种印制线路板蚀刻废液循环再生及铜提取工艺,其特征在于:步骤(4)中储存于储槽H6的洗液可以是自来水、氨水、碳酸氢钠溶液、硫酸溶液中的一种,浓度为0.01%~5%,搅拌洗涤5~120分钟,转速为50~500转/分钟,静置时间为5~120分钟。
8.根据权利要求1所述一种印制线路板蚀刻废液循环再生及铜提取工艺,其特征在于:步骤(5)中搅拌时间为5~120分钟,转速为50~1500转/分钟,静置时间为5~120分钟。
9.根据权利要求1所述一种印制线路板蚀刻废液循环再生及铜提取工艺,其特征在于:步骤(8)中搅拌时间为5~120分钟,转速为50~500转/分钟,静置时间5~120分钟。
10.根据权利要求1所述一种印制线路板蚀刻废液循环再生及铜提取工艺,其特征在于:所述步骤(1)~(9)的操作温度范围为0~90℃。
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