[发明专利]反射折射投影物镜有效

专利信息
申请号: 201110158145.0 申请日: 2005-01-13
公开(公告)号: CN102207608A 公开(公告)日: 2011-10-05
发明(设计)人: D·谢弗;W·乌尔里希;A·多多克;R·冯比瑙;H·-J·曼;A·埃普勒 申请(专利权)人: 卡尔蔡司SMT有限责任公司
主分类号: G02B17/08 分类号: G02B17/08;G03F7/20
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 邱军
地址: 德国*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 反射 折射 投影 物镜
【权利要求书】:

1.一种反射折射投影物镜,用于将提供在投影物镜物面中的图形成像到投影物镜的像面上,包括:

第一物镜部分,用于将提供在所述物面中的图形成像为第一中间图像;

第二物镜部分,用于将所述第一中间图像成像为第二中间图像;

第三物镜部分,用于将所述第二中间图像成像到所述像面上;

其中具有第一连续镜面的第一凹面镜和具有第二连续镜面的至少一个第二凹面镜布置在所述第二中间图像的上游;

第一光瞳面形成在所述物面和所述第一中间图像之间,第二光瞳面形成在所述第一中间图像和所述第二中间图像之间,并且第三光瞳面形成在所述第二中间图像和所述像面之间;并且

在所述第一物镜部分中所述第一光瞳面附近放置至少一个具有基本平行板表面的板,其中至少一个板表面被非球面化,用于校正像差。

2.根据权利要求1的投影物镜,其中将所述板放置在紧挨所述第一光瞳面之后。

3.根据权利要求1的投影物镜,其中所述板可以互换。

4.根据权利要求1的投影物镜,其中在所述第一物镜部分内紧挨所述板之前的所述第一光瞳面处布置孔径光阑。

5.根据权利要求1的投影物镜,其中所述第一物镜部分是纯折射物镜部分。

6.根据权利要求1的投影物镜,其中所述第一物镜部分仅具有6个具有显著折射能力的透镜元件。

7.根据权利要求6的投影物镜,其中所述透镜元件是正透镜。

8.根据权利要求1的投影物镜,其中所述第一物镜部分是折射型的,并包括透镜元件和非球面表面,其中透镜元件的数量与非球面表面的数量之比小于1.6。

9.根据权利要求1的投影物镜,其中所有凹面镜布置在光学远离光瞳面的位置,在这些位置处主光线高度超过成像过程的边缘光线高度。

10.根据权利要求1的投影物镜,其中存在正好两个凹面镜和正好两个中间图像。

11.根据权利要求1的投影物镜,其中第一物镜部分是屈光成像系统;

第二物镜部分包括第一和第二凹面镜,所述凹面镜的凹面镜镜面相互面对并且定义镜间间隔;

其中至少一个第一中间图像几何上位于第一凹面镜和第二凹面镜之间的镜间间隔内。

12.根据权利要求11的投影物镜,其中第一中间图像和第二中间图像几何上都位于第一凹面镜和第二凹面镜之间的镜间间隔内。

13.根据权利要求1的投影物镜,其中第一物镜部分、第二物镜部分和第三物镜部分共享公共直线光轴。

14.根据权利要求1的投影物镜,其中投影物镜是不具有光瞳昏暗的清楚的系统。

15.根据权利要求1的投影物镜,其中第一物镜部分设计成放大成像系统。

16.根据权利要求1的投影物镜,其中第一物镜部分设计成具有放大率β1在1<|β1|<2.5范围的放大成像系统。

17.根据权利要求1的投影物镜,其中所述投影物镜不包括凸面镜。

18.根据权利要求1的投影物镜,其中所述投影物镜不包括平面折叠镜。

19.根据权利要求1的投影物镜,其中所述投影物镜具有像侧数值孔径NA>0.9。

20.根据权利要求1的投影物镜,其中所述投影物镜设计为调整参考像差的浸液物镜,使得最后的光学元件和像面之间的像侧工作距离被具有折射系数大于1的浸液媒质填充。

21.根据权利要求1的投影物镜,其中当所述投影物镜与浸液媒质结合使用时,所述投影物镜具有像侧数值孔径NA>1.1。

22.一种用在微光刻中的投影曝光系统,具有照射系统和反射折射投影物镜,其中根据权利要求1来配置投影物镜。

23.一种用于制造半导体器件或者其它类型微器件的方法,包括:

提供具有指定图形的掩模;

使用具有指定波长的紫外线光照射掩模;和

使用根据权利要求1的反射折射物镜将所述图形的图像投影到布置在投影物镜的像面附近的光敏衬底上。

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