[发明专利]同端进出式连续溅射镀膜设备

权利要求书

1.同端进出式连续溅射镀膜设备，包括真空腔体和真空抽气装置，所述真空抽气装置与真空腔体相连通，其特征在于所述真空腔体由相邻且相通的预抽室和溅射室两个真空室构成，两个真空室之间设有隔离阀，腔体的末端和前端分别设有盲法兰和真空锁阀，所述真空锁阀外侧设有一个装卸片台，在溅射室内设置有可往复传输的工件架传输装置，在预抽室内装有复合传输装置，所述溅射室内装有至少三对相对布置的磁控溅射靶，所述工件架传输装置能够与工件架相配合，并能将工件架从装卸片台依次输送到预抽室、溅射室，并从原路输回到所述装卸片台。

2.根据权利要求1所述同端进出式连续溅射镀膜设备，其特征在于所述真空室均由不锈钢或碳钢材料制成，腔体型式为立式结构和卧式结构中的一种。

3.根据权利要求1所述同端进出式连续溅射镀膜设备，其特征在于所述预抽室复合传输装置由平移器，至少由两套互相平行的驱动导轨构成，所述两套互相平行的驱动导轨均装有摩擦式驱动轮、同步轮和轴承，每套驱动导轨单独连接一个可逆电机， 可逆电机的轴与摩擦驱动轮同步轮相配合，所述直线导轨的滑块与驱动导轨固定连接，直线导轨的滑轨固定在真空腔体的底部，所述平移器的驱动轴与驱动导轨固定连接。

4.根据权利要求1和3所述同端进出式连续溅射镀膜设备，其特征在于所述复合传输装置上布置一个能够随复合传输装置一道平移的加热式或等离子清洗装置，所述清洗装置由焊接在复合工件架传输装置上的两个T字形不锈钢支架、布置在所述两个支架直档构成的平面上的清洗器、布置在所述T字形支架横档上的至少两条平行的、用来稳住片架的槽钢形上导轨以及由抛光不锈钢板制成的用来反射热辐射或限制等离子区的屏蔽板等部件构成，所述清洗器是红外灯管、紫外灯管或不锈钢网的一种。

5.根据权利要求1和2所述同端进出式连续溅射镀膜设备，其特征在于所述溅射室至少设有三对相对布置、溅射面指向对方、不同靶材或同种靶材的磁控溅射靶，所述的磁控溅射靶为柱型旋转磁控靶、平面磁控溅射靶以及弧源靶中的一种。

6.根据权利要求1所述同端进出式连续溅射镀膜设备，其特征在于所述工件架由不锈钢板和焊接在该不锈钢板上的用来装载基片的载片框架构成，所述工件架与传输导轨的摩擦轮以及槽钢型上导轨配合，带动工件架往复移动。