[发明专利]发光薄膜、其制备方法和应用有效
申请号: | 201110135279.0 | 申请日: | 2011-05-23 |
公开(公告)号: | CN102796519A | 公开(公告)日: | 2012-11-28 |
发明(设计)人: | 周明杰;王平;陈吉星;黄辉 | 申请(专利权)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司 |
主分类号: | C09K11/64 | 分类号: | C09K11/64;H01J29/20;H01L33/50;H05B33/14 |
代理公司: | 深圳中一专利商标事务所 44237 | 代理人: | 张全文 |
地址: | 518052 广东省深*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 薄膜 制备 方法 应用 | ||
技术领域
本发明属于半导体光电材料技术领域,尤其涉及一种发光薄膜、其制备方法和应用。
背景技术
薄膜电致发光显示器(TFELD)由于其主动发光、全固体化、耐冲击、反应快、视角大、适用温度宽、工序简单等优点,已引起了广泛的关注,且发展迅速。铝酸锶可以在光激发后的长时间内保持发光,作为长余辉光学材料已经得到深入的研究。铝酸锶用于荧光发光已经得到的较为广泛的应用。但是,将铝酸锶用于发光薄膜中发光,并没有见到报道;而且,目前的发光薄膜的发光效率不高,不能满足高亮度发光器件的要求。
发明内容
有鉴于此,本发明实施例提供提供一种发光效率高的发光薄膜。
本发明是这样实现的,
一种发光薄膜,包括相掺杂的CaF2和SrAl2-xO4∶xMn4+,该x的取值0.08~0.16,该CaF2质量百分含量为0.1%~0.8%。
以及,
一种发光薄膜制备方法,包括如下步骤:
将Al2O3、SrO、CaF2及MnO2混合,得到混合物,将该混合物烧结、形成溅射靶材,该混合物中各组分的摩尔比为:SrO∶Al2O3∶MnO2∶CaF2=1∶(0.92~0.96)∶(0.08~0.16)∶(0.003~0.02),该CaF2质量百分含量为0.1%~0.8%,;
将该溅射靶材利用磁控溅射形成膜,得到发光薄膜前体;
将该发光薄膜前体进行退火处理,得到发光薄膜。
本发明实施例进一步提供上述发光薄膜在阴极射线管、电致发光显示器件或场发射器件中的应用。
本发明实施例发光薄膜,通过使用铝酸锶和二氧化锰,以铝酸锶为基质,以锰离子为发光中心,通过掺杂氟化钙,大大减少了发光薄膜在发光过程中产生的二价锰离子的数量,使得发光薄膜的发光效率大大提高,同时,氟离子在发光薄膜中能够活化锰离子发光中心,使得发光薄膜的发光效率显著提升。本发明实施例制备方法操作简单、设备低廉,适于工业化生产。
附图说明
图1是本发明实施例发光薄膜中氟化钙含量与发光效率关系图;
图2是本发明实施例发光薄膜发光光谱图;
图3是本发明实施例发光膜XRD图
图4是应用本发明实施例发光薄膜的电致发光器件结构图
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白,以下结合附图及实施例,对本发明进行进一步详细说明。应当理解,此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明,并不用于限定本发明。
本发明实施例提供一种发光薄膜,包括相掺杂的CaF2和SrAl2-xO4∶xMn4+,该x的取值0.08~0.16,该CaF2质量百分含量为0.1%~0.8%。
具体地,本发明实施例的发光薄膜,包括SrAl2-xO4∶xMn4+(锰掺杂铝酸锶)及氟化钙,用化学式表示该发光薄膜的组成为:CaF2-SrAl2-xO4∶xMn4+;铝酸锶是发光薄膜的基质。该铝酸锶由氧化锶和三氧化二铝经过高温煅烧形成。
具体地,该SrAl2-xO4∶xMn4+中,x的取值0.08~0.16,优选为0.12;本发明实施例发光薄膜中,二氧化锰中的锰离子进入铝酸锶晶格中取代铝离子,锰离子为正四价,为了维持锰掺杂后的铝酸锶晶格的电荷平衡,微量的正四价锰离子会转换成正二价的锰离子,而正二价的锰离子对发光薄膜的发光产生不利的影响。
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