[发明专利]对一种或多种材料进行测量的系统及方法

权利要求书

1.一种用于分析流体样品的系统，包括：

流体流通室；

磁体和用于在所述流体流通室的成像区域附近选择性地定位所述磁体的机构；

照射子系统，被配置为照射所述流体流通室的所述成像区域；以及

光敏检测子系统，被配置为在所述流体流通室的所述成像区域被照射时对其成像。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述流体流通室的所述成像区域的内后部包括粗糙表面。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述用于选择性地定位所述磁体的机构被配置为：在所述磁体被定位在所述成像区域附近时，将所述磁体定位得使所述磁体的偏振轴位于相对于所述成像区域的中心点的下游。

4.根据权利要求1所述的系统，其中，所述用于选择性地定位所述磁体的机构包括磁场强度传感器，以及其中所述系统包括能够由处理器执行来校准所述磁体的位置的程序指令，所述位置是使用所述机构在所述流体流通室的所述成像区域附近将所述磁体选择性地移动到的位置，其中用于校准所述磁体的位置的所述程序指令包括具有以下作用的程序指令：

驱动马达来向所述流体流通室的所述成像区域移动所述磁体；

在向所述成像区域移动所述磁体的同时测量所述磁场强度传感器的输出电压；

在缓冲区中存储测量到的输出电压；

在检测出所述磁场强度传感器的输出电压上的变化很小时关停所述马达；以及

将所存储的测量到的输出电压之一指定为在所述流体流通室的所述成像区域附近选择性地移动所述磁体时所述机构要达到的参考电压。

5.根据权利要求1所述的系统，还包括：

贮存容器平台，被配置为容纳和稳固包含样品的贮存容器；以及

用于在所述系统内伸出和收回所述贮存容器平台的机构，其中所述贮存容器平台包括：

支承底座，其具有用于容纳贮存容器的部分有边框的区域；

定位部件，其从所述支承底座延伸，并界定所述部分有边框的区域，其中所述定位部件在所述部分有边框的区域内的表面具有粗糙表面；以及

弹簧推杆，被集成在所述支承底座当中，并被配置为：

当所述贮存容器平台被收回到所述系统当中时，对所述部分有边框的区域内容纳的所述贮存容器的第一侧壁施加力，其中所述力足以针对所述定位部件的具有粗糙表面的表面稳固该贮存容器的第二相对的侧壁；以及

当所述贮存容器平台正被伸出所述系统外时释放所施加的力。

6.根据权利要求1所述的系统，还包括：

贮存容器平台；

样品探针；以及

程序指令，能够由处理器执行来来校准所述样品探针相对于被置于所述贮存容器平台中的贮存容器的孔的位置，其中用于校准所述样品探针的位置的所述程序指令包括具有以下作用的程序指令：

控制马达移动预设步进数，以向所述孔驱动所述样品探针；

在所述样品探针移动期间或之后监测所述样品探针与所述贮存容器平台之间的电容；

监测与所述马达被控制移动的所述预设步进数相对的所述马达驱动所述样品探针移动的步进数；

在监测到所述电容上的变化等于或大于预定阈值时，或者在监测到所述马达没有移动所述预设步进数时，把所述样品探针的当前位置记录为参考位置；

基于所述参考位置指定所述样品探针用于从所述贮存容器的孔中取出所述流体样品的目标垂直位置；

重复以上控制所述马达移动的步骤、监测所述电容的步骤和监测所述马达移动的步进数的步骤，直至指定所述目标垂直位置或者直至控制所述马达移动的步骤、监测所述电容的步骤和监测所述马达移动的步进数的步骤被重复进行预定迭代次数为止。

7.根据权利要求6所述的系统，其中，用于指定所述样品探针的所述目标垂直位置的所述程序指令包括用于把与离所述孔的底表面更远的与所述参考位置相距预设距离处的位置指定为所述目标垂直位置的程序指令。

8.根据权利要求6所述的系统，其中，用于指定所述样品探针的所述目标垂直位置的所述程序指令包括：基于是否监测到所述电容上的变化等于或大于预定阈值或是否监测到所述马达没有移动所述预设步进数，来选择性地把所述目标垂直位置指定为与所述参考位置相距不同距离的程序指令。