[发明专利]掩模台垂向测量装置有效
| 申请号： | 201110117110.2 | 申请日： | 2011-05-05 |
| 公开（公告）号： | CN102768470A | 公开（公告）日： | 2012-11-07 |
| 发明（设计）人： | 江旭初;李生强;齐芊枫 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 掩模台垂 测量 装置 | ||
【权利要求书】：
1.一种掩模台垂向测量装置，包括掩模台中的承版台和至少三个电容传感器，其特征在于，所述承版台依次包括承版台本体、绝缘层和至少三个导电膜，
所述绝缘层覆盖在所述承版台本体底部，所述导电膜相互独立的覆盖于所述绝缘层底部，
所述电容传感器固定在所述承版台下方，其位置与所述导电膜位置对应。
2.根据权利要求1所述的掩模台垂向测量装置，其特征在于，所述绝缘层为嵌件，所述嵌件的材料为绝缘材料。
3.根据权利要求1所述的掩模台垂向测量装置，其特征在于，所述绝缘层为绝缘膜，所述绝缘膜为绝缘材料。
4.根据权利要求1所述的掩模台垂向测量装置，其特征在于，所述导电膜为金属材料。
5.根据权利要求2所述的掩模台垂向测量装置，其特征在于，所述嵌件覆盖于所述承版台本体的整个底部。
6.根据权利要求2所述的掩模台垂向测量装置，其特征在于，所述嵌件覆盖于所述承版台本体对应所述导电膜位置处。
7.根据权利要求1所述的掩模台垂向测量装置，其特征在于，所述电容传感器固定在物镜顶部模块。
8.根据权利要求1所述的掩模台垂向测量装置，其特征在于，所述导电膜为四个，成交错排列。
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