[发明专利]旋转圆盘固体培养装置中的曲基质放入装置和旋转圆盘固体培养装置中的曲基质放入方法

说明书

技术领域

本发明涉及将曲基质放入圆形培养床的旋转圆盘固体培养装置中的曲基质的放入。

背景技术

以往，公知有使用移动输送器将曲基质放入圆形培养床的曲基质的放入装置（例如下述专利文献1、2、3）。在这些放入装置中，一边使移动输送器沿圆形培养床的半径方向往返运动，一边使曲基质落下到圆形培养床上。另一方面，在利用假想的等间隔的同心圆划分圆形培养床的情况下，对于各划分区域的面积，圆形培养床的外周侧比中心侧大。因此，若移动输送器的往返运动的速度匀速，则每单位面积的放入量越是靠近圆形培养床的外周侧越少。

因此，在专利文献1中，提出了使搬送机（移动输送器）自身的向圆盘（圆形培养床）上的中心部和外周部移动的移动时间与圆形培养床的圆周速度成反比来进行控制，从而均匀地放入曲基质（第1页第2栏15～17行）。在专利文献2中，计算圆形培养床的环状的区域面积（S1、S2、S3）的面积比，与该面积比成反比地使移动搬送部（移送输送器）的尖端的供给口的移动速度变速，以均等的堆积厚度放入曲基质（段落[0015] ～[0018]）。

并且，在专利文献3中，提出了这样的技术：当反复进行多次将曲基质整面作为薄层而放入圆形培养床的操作从而多层状地进行放入直到目标层厚时，与曲基质从移动输送器落下的位置对应地使移动输送器的传送带速度变速，使曲基质的层厚均匀。（段落[0004]）

【专利文献1】日本实公昭53-42640号公报

【专利文献2】日本特开2004-229583号公报

【专利文献3】日本特开平6-327466号公报

但是，若时时刻刻使移动输送器的速度变化，则随之传送带上的曲基质的截面积也时时刻刻变化，因此，传送带上的曲基质的截面积变得不均匀。因此，仅根据圆形培养床的圆周速度或环状的区域的面积比使移动输送器的移动速度变化时，或根据位置使传送带速度变化时，有时无法得到曲基质的放入的目标均匀度。

发明内容

本发明为了解决如上所述的现有问题而提出，其目的在于提供一种旋转圆盘固体培养装置中的曲基质放入装置和旋转圆盘固体培养装置中的曲基质放入方法，能够使放入圆形培养床的曲基质的层厚均匀，并使其再现性良好，还能够形成为期望的层厚。

为了达成上述目的，本发明的旋转圆盘固体培养装置中的曲基质放入装置为，将曲基质放入圆形培养床，其特征在于，一边使由移动输送器的传送带搬送来的曲基质落下到圆形培养床，一边使上述移动输送器在圆形培养床上方往返运动，具备控制机构，该控制机构调节上述传送带的传送带速度，以对根据上述传送带速度和上述传送带上的曲基质的落下端处的截面积求得的落下量进行控制。

本发明的旋转圆盘固体培养装置中的曲基质放入方法为，将曲基质放入圆形培养床，其特征在于，一边使由移动输送器的传送带搬送来的曲基质落下到圆形培养床，一边使移动输送器在圆形培养床上方往返运动，调节上述传送带的传送带速度，以对根据上述传送带的传送带速度和上述传送带上的曲基质的落下端处的截面积求得的落下量进行控制。

根据本发明，通过调节上述传送带速度，对根据上述传送带速度与上述传送带上的曲基质在落下端处的截面积求得的落下量进行控制，因此，落下量相对于目标值的精度提高。因此，能够高精度地确保各工序中的必要落下量，能够使放入圆形培养床的曲基质的层厚均匀，并使其再现性良好，还能够形成为期望的层厚。在本发明中，上述传送带上的曲基质在落下端处的截面积可以通过运算求得，也可以由摄像传感器等检测出来。

在本发明中，优选将圆形培养床上分割为假想的区域，每当切换区域或切换去往路径和返回路径时调节上述传送带的传送带速度，以使曲基质的落下量对于各区域为任意的量。若这样地构成为每当切换区域时等调节传送带速度，则容易算出传送带速度，控制程序的制作变得容易。

并且，在上述本发明中，优选由向上述传送带上供给的每单位时间的曲基质的体积、上述传送带速度和上述移动输送器的移动速度求得上述传送带上的曲基质的供给地点处的截面积，根据该截面积导出上述传送带上的曲基质在落下端处的截面积，对上述落下量进行定序控制。

根据基于上述优选的结构的定序控制，若设定向上述传送带上供给的每单位时间的曲基质的体积、上述传送带速度和上述移动输送器的移动速度，则通过运算求得上述传送带上的曲基质在落下端处的截面积，因此，能够预先确定用于调节落下量的上述传送带速度，因此，能够按照在运转前作成的控制程序来实施曲基质放入装置的一连串的运转。