[发明专利]光头以及电子设备有效

专利信息
申请号: 201110084775.8 申请日: 2011-04-01
公开(公告)号: CN102218938A 公开(公告)日: 2011-10-19
发明(设计)人: 窪田岳彦 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: B41J2/45 分类号: B41J2/45;G03G15/04
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 王轶;李伟
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 光头 以及 电子设备
【权利要求书】:

1.一种光头,其特征在于,

所述光头具备:

发光基板,该发光基板具有在主扫描方向上排列的多个第1发光部、和相对于所述多个第1发光部的排列在与所述主扫描方向交叉的方向上配置的第2发光部;以及

透镜阵列,该透镜阵列具有第1透镜和第2透镜,该第1透镜设置在与所述多个第1发光部的各自对置的位置上,将来自对置的所述第1发光部的射出光成像在被照射面上,该第2透镜将来自所述第2发光部的射出光成像在所述被照射面上,

来自所述多个第1发光部的各自的射出光,成像在连结该第1发光部和与该第1发光部对置的所述第1透镜的直线与所述被照射面交叉的位置上,

所述第2发光部的光的射出方向相对于从该第2发光部的发光面垂直延伸的直线具有倾斜,

当将来自所述多个第1发光部中位于一端的所述第1发光部的射出光的成像位置设为第1成像位置,将来自其他的任一个所述第1发光部的射出光的成像位置设为第2成像位置时,来自所述第2发光部的射出光隔着所述第1成像位置而成像在与所述第2成像位置一侧相反的一侧。

2.根据权利要求1所述的光头,其特征在于,

所述第2发光部具备发光的发光层、和对所述发光层发出的光进行反射的光反射层,

所述光反射层以光的反射方向具有所述倾斜的方式形成。

3.根据权利要求2所述的光头,其特征在于,

以光的反射方向具有所述倾斜的方式设定所述光反射层相对于所述发光层的配置角度。

4.根据权利要求2所述的光头,其特征在于,

以光的反射方向具有所述倾斜的方式设定所述光反射层的形状。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的光头,其特征在于,

所述多个第1发光部在所述主扫描方向上以规定间距排列,

来自所述第2发光部的射出光成像在从所述第1成像位置向与所述第2成像位置一侧相反的一侧的方向离开所述规定间距的位置上。

6.根据权利要求1所述的光头,其特征在于,

所述发光基板具有2个所述第2发光部,

所述透镜阵列具有2个将来自对应的所述第2发光部的射出光成像在所述被照射面上的所述第2透镜,

所述2个第2发光部的各自的光的射出方向相对于从该第2发光部的发光面垂直延伸的直线具有倾斜,

来自一个所述第2发光部的射出光隔着所述第1成像位置而成像在与所述第2成像位置一侧相反的一侧,

当将来自所述多个第1发光部中位于另一端的所述第1发光部的射出光的成像位置设为第3成像位置,将来自其他的任一个所述第1发光部的射出光的成像位置设为第4成像位置时,来自另一个所述第2发光部的射出光隔着所述第3成像位置而成像在与所述第4成像位置一侧相反的一侧。

7.一种光头,其特征在于,

所述光头具备:

发光基板,该发光基板具有在主扫描方向上排列的多个第1发光部、和相对于所述多个第1发光部的排列在与所述主扫描方向交叉的方向上配置的第2发光部;以及

透镜阵列,该透镜阵列具有第1透镜和第2透镜,该第1透镜设置在与所述多个第1发光部的各自对置的位置上,将来自对置的所述第1发光部的射出光成像在被照射面上,该第2透镜将来自所述第2发光部的射出光成像在所述被照射面上,

所述多个第1发光部的各自的光的射出方向与从该第1发光部的发光面垂直延伸的直线一致,

所述第2发光部的光的射出方向相对于从该第2发光部的发光面垂直延伸的直线具有倾斜。

8.一种光头,其特征在于,

所述光头具备:

发光基板,该发光基板具有在主扫描方向上排成一列的多个发光部;以及

透镜阵列,该透镜阵列具有在所述主扫描方向上排成一列且将来自对应的所述发光部的射出光成像在被照射面上的多个透镜,

当将所述多个发光部中的任一个发光部设为第1发光部,将与该第1发光部相邻排列的发光部设为第2发光部时,所述第1发光部的光的射出方向和所述第2发光部的光的射出方向不同,以使来自所述第1发光部的射出光的成像位置与来自所述第2发光部的射出光的成像位置之间的距离大于所述第1发光部和所述第2发光部之间的排列间隔。

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