[发明专利]用于制造结构化的、接触承印物的表面的方法

权利要求书

1.用于制造结构化的、接触承印物的表面的方法，其中，在基底(2)上产生结构化的、具有微粒(5)的涂层(3)，其特征在于，

-所述微粒(5)通过纳米颗粒(4b)的吸附被抗吸附地包套和附聚，

-将产生的附聚物(9)固定在溶胶-凝胶-基质(4a)中。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述微粒(5)具有约1至约5微米的尺寸并且由此产生具有约10至约50微米的附聚物(9)。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述涂层(3)的结构隆起部(8)基本上由所述附聚物(9)构成。

4.用于使结构化的、接触承印物的表面自修复的方法，所述表面在基底(2)上具有结构化的涂层(3)，其特征在于，在所述涂层(3)的结构隆起部(8)中包含通过纳米颗粒(4b)的吸附被抗吸附地包套的微粒(5)并且所述微粒(5)与其各自的抗附着外套(6)一起通过所述结构隆起部(8)的尖端(7)的磨蚀而露出。

5.结构化的、接触承印物的表面，其在基底(2)上具有结构化的、具有微粒(5)的涂层(3)，其特征在于，所述涂层(3)具有固定在溶胶-凝胶-基质(4a)中的、由通过纳米颗粒(4b)的吸附被抗吸附地包套的微粒(5)构成的附聚物(9)。

6.如权利要求5所述的表面，其特征在于，所述微粒(5)具有约1至约5微米的尺寸并且所述附聚物(9)具有约10至约50微米的尺寸。

7.如权利要求5或6所述的表面，其特征在于，所述涂层(3)的结构隆起部(8)基本上由所述附聚物(9)构成。

8.如权利要求5至7中任一项所述表面，其特征在于，所述微粒(5)具有碳化硅。

9.处理承印物的机器，例如印刷机特别是用于平版胶印的处理页张的轮转印刷机或者例如印后处理机，其特征在于，设有如上述权利要求5至8中任一项所述的结构化的、接触承印物的表面(1)。

10.固定在溶胶-凝胶-基质(4a)中的、由通过纳米颗粒(4b)的吸附被抗吸附地包套的微粒(5)构成的附聚物(9)的应用，用于使结构化的、接触承印物的表面自修复。