[发明专利]连续扩散处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种连续扩散处理装置。

背景技术

例如，在利用结晶硅的太阳能电池单元制造过程中，需要进行扩散处理，即，使由规定元素构成的杂质附着在硅制的被处理件(晶片)的表面，并使该杂质扩散到被处理件的内部。作为进行所述扩散处理的扩散处理装置，例如有批处理式的。该批处理式装置具备加热被处理件的加热炉，该加热炉的大小只是能够容纳装载多个被处理件的托盘。

在将被处理件送入该加热炉中后，向该加热炉内提供含有杂质的气体，并提高加热炉内温度，使杂质扩散到被处理件的内部。之后，在加热炉内降温后，将被处理件从加热炉取出。

在使用所述批处理式加热炉的情况下，虽然希望能够提高处理质量，但实际上在加热炉内进行扩散处理的时间前后，必须要有将炉内温度提高到规定温度的时间和将炉内温度降低的时间，因此不能连续处理被处理件，从而难以提高生产效率。

所以，如专利文献1所公开的连续扩散处理装置包括：筒状的加热炉；输送器，排列被处理件并在加热炉内输送被处理件；加热装置，对通过加热炉内的被处理件进行加热；以及供给装置，向加热炉内提供含有杂质的气体。

此外，在所述装置中，为了将加热炉内的气氛与外界气体隔断，在加热炉的两端部从上往下会吹出氮气，形成气幕。

专利文献1：日本专利公开公报特开平9-298163号。

按照专利文献1所记载的装置，能够对被处理件连续进行处理，与批处理式相比更能提高生产效率。

然而，如上文所述，虽然因气幕使加热炉内部的气氛与外界气体隔断，但在加热炉内部并没有明确划分实际进行扩散处理的处理区和其他的处理区。所以很难控制每个处理区的气氛，与批处理式相比被处理件的处理质量有可能会变低。

发明内容

鉴于上述问题，本发明的目的在于提供一种既能提高生产效率又能提高处理质量的连续扩散处理装置。

本发明的连续扩散处理装置包括：输送台，装载多张板状的被处理件；筒状的加热炉，从送入所述输送台的送入部到送出所述输送台的送出部以直线状延伸；输送装置，将所述输送台从所述送入部向所述加热炉内依次送入，并将已在所述加热炉内输送的所述输送台从所述送出部依次送出；加热装置，对通过所述加热炉内的所述输送台上装载的所述被处理件进行加热；多个隔壁构件，设置在所述加热炉内，并将从所述加热炉内的所述送入部到所述送出部之间在输送方向上划分成多个处理区；以及给排气装置，向每个所述处理区分别提供气体，并在每个所述处理区分别排出气体。

按照本发明，能将装载在输送台上的被处理件边输送到加热炉内边进行扩散处理，与以往的批处理式相比更能提高生产率。并且，加热炉内被隔壁构件划分为多个处理区，向每个处理区分别提供气体，并将每个处理区内的气体排出，从而能够对加热炉内的每个处理区的气氛进行控制，得到高质量的被处理件。

此外优选的是，所述加热装置包括设置在所述加热炉外部周围的加热器、与所述加热器一起覆盖所述加热炉的筒状的隔热材料，所述连续扩散处理装置还包括控制装置，所述控制装置通过控制所述加热器，对每个所述处理区分别进行炉内的温度调整。

此时，能够对加热炉内各处理区的温度进行控制，得到高质量的被处理件。

此外，优选的是，所述隔壁构件沿所述输送方向可移动地设置在所述加热炉内，在这种情况下，能够改变处理区的长度。

此外，优选的是，所述输送台在输送方向上的长度尺寸小于被所述隔壁构件划分的各处理区在输送方向上的长度尺寸。

在这种情况下，可以让至少一台输送台整体位于各处理区。由此，可以在每个处理区在同样氛围的条件下，对在同一台输送台上装载的多个被处理件进行扩散处理，能够使所述多张被处理件的质量均一。

此外优选的是，所述加热装置包括设置在所述加热炉外部周围的加热器、与所述加热器一起覆盖所述加热炉的筒状的隔热材料，所述隔热材料是沿所述输送方向被切断的分割结构。

在这种情况下，通过将隔热材料设置为分割结构，使位于内侧的加热炉能够装卸。

此外优选的是，所述给排气装置包括：供气装置，向用于进行扩散处理的处理区提供用于扩散处理的气体；排气装置，将该处理区的气体排出，所述供气装置配置在所述加热炉的上部，所述加热炉具有覆盖物，所述覆盖物从上面和左右两侧覆盖用于进行所述扩散处理的处理区中的所述输送台所通过的输送通道，并设置有多个贯通孔。