[发明专利]用于保护借助于电子束的容器处理装置的系统

权利要求书

1.一种处理装置，用于借助于电子束对容器(R)进行杀菌，所述处理装置包括：

-圆盘传送带(1)，所述圆盘传送带(1)包括旋转保持板(10、110)，所述旋转保持板(10、110)支撑以规则角度间隔布置的多个处理站(2)，每个处理站包括具有电子束发射体(31、131)的杀菌设备(3)和用于将容器保持在所述发射体之下的保持设备(4、104)，所述发射体能够发射电子束，所述电子束经过由所述保持设备支撑的容器的上部开口，以对所述容器进行杀菌，以及

-保护系统，其用于阻挡由所述发射体发射的射线，

其特征在于：所述保护系统包括为环形节段的形式的开口固定通道(6、106)，所述开口固定通道(6、106)以固定的方式安装在所述保持板(10、110)的下方并与所述保持板(10、110)一起形成保护腔(E1、E2)，支撑所述容器的所述保持设备在所述保护腔(E1、E2)中移动，所述通道具有开口上游端(61)和开口下游端(62)，所述开口上游端(61)用于待处理的容器进入所述保护腔中的进口，所述开口下游端(62)用于被处理的容器离开所述腔的出口。

2.根据权利要求1所述的处理装置，其特征在于：所述固定通道(6、106)基本不与所述保持板(10、110)接触，所述保护系统包括第一屏蔽系统(11、12)以在板-环结合部处屏蔽由所述发射体发射的射线。

3.根据权利要求1或2所述的处理装置，其特征在于：所述保护系统包括第二屏蔽系统(7)，所述第二屏蔽系统(7)用于屏蔽能够经过所述通道(6、106)的所述上游端和所述下游端(61、62)的射线。

4.根据权利要求1至3中的一项所述的处理装置，其特征在于：所述处理装置还包括第一转移星形轮(52)和第二转移星形轮(53)，所述第一转移星形轮(52)用于在所述上游端(61)的上游将待处理的容器(R)转移到所述保持设备(4、104)，所述第二转移星形轮(53)用于在所述下游端(62)的下游从所述保持设备中去除被处理的容器。

5.根据权利要求3和4所述的处理装置，其特征在于：所述第二屏蔽系统包括基本竖直的侧壁(7)，所述侧壁(7)在所述上游端和所述下游端(61、62)中的任一侧上从所述通道(6、106)的外壁(65)延伸并包围两个转移星形轮(52、53)。

6.根据权利要求1至5中的一项所述的处理装置，其特征在于：构成所述保护系统的元件(10、11、12、13、6、7；110、106)由铅基板制成。

7.根据权利要求1至6中的一项所述的处理装置，其特征在于：所述发射体(31、131)设有管状喷嘴(32、132)，所述喷嘴(32、132)能够在所述保持板(10、110)的下方基本竖直地延伸且能够借助于其远端(32a、132a)输送由所述发射体产生的电子束，每个处理站(2)包括升高/降低设备，所述升高/降低设备作用在所述保持设备(4、104)上并且/或者作用在所述发射体(31、131)上，以将所述喷嘴经由所述容器的上部开口引入所述容器中，或者将所述喷嘴从所述容器中抽出。

8.根据权利要求7所述的处理装置，其特征在于：每个处理站的所述发射体(31、131)以固定的方式安装在所述板(10)上，所述发射体(31、131)的喷嘴在所述板的下方竖直地延伸，所述升高/降低设备能够移动所述保持设备(4、104)。

9.根据权利要求7所述的处理装置，其特征在于：每个处理站的所述发射体(31)以固定的方式安装在所述板(10)的上表面上，所述保护系统还包括覆盖所述发射体(31)的一个或多个盖子(13)。

10.根据权利要求7所述的处理装置，其特征在于：每个处理站的所述发射体(31)以固定的方式安装在所述板(110)的下表面上并布置在所述保护腔(E2)中。

11.根据权利要求1至10中的一项所述的处理装置，其特征在于：所述处理装置包括注射设备(8)，所述注射设备(8)能够将产品注入所述保护腔(E2)中，以去除在辐射期间通过所述电子束发射体(31、131)产生的臭氧。

12.根据权利要求11所述的处理装置，其特征在于：所述注射设备包括用于每个处理站的注射喷管(8)，所述喷管能够通过经过所述容器(R)的所述上部开口而引入所述容器(R)中。