[发明专利]具有冷却器板的有机蒸汽喷射装置

权利要求书

1.一种装置，包括：

喷嘴；

与所述喷嘴流体连通的载体气体源和有机分子源；以及

与所述喷嘴相邻设置的主动冷却系统。

2.如权利要求1所述的装置，还包括：

腔体，其中，所述喷嘴和所述主动冷却系统设置在所述腔体内；

设置在所述腔体内的基底保持器，所述基底保持器适于将基底支承在所述喷嘴的下方，所述基底保持器能够相对于所述喷嘴移动。

3.如权利要求1所述的装置，还包括由所述基底保持器保持的基底，其中，所述基底设置在距所述主动冷却系统0.1mm至10mm的距离处。

4.如权利要求1所述的装置，还包括附接到所述喷嘴上的加热系统。

5.如权利要求4所述的装置，其中，所述加热系统附接到所述喷嘴上的位置包括距所述喷嘴的顶端0至5mm的至少一个位置。

6.如权利要求1所述的装置，其中，所述主动冷却系统为具有位于其中的开孔的板，并且所述喷嘴延伸穿过所述开孔。

7.如权利要求6所述的装置，其中，所述喷嘴从所述开孔中突出0至10mm。

8.如权利要求6所述的装置，其中，所述喷嘴从所述开孔中突出所述喷嘴在其顶端处的内径的0倍至10倍。

9.如权利要求6所述的装置，其中，所述主动冷却系统还包括位于所述板中的冷却流体通道。

10.如权利要求8所述的装置，其中，冷却流体包封在所述通道中，并且所述冷却流体从由乙二醇和液氮构成的组中选取。

11.如权利要求1所述的装置，其中，所述主动冷却系统还包括附接到所述板的后部的通道。

12.如权利要求1所述的装置，其中，所述主动冷却系统适于维持-100℃至100℃的板温度。

13.如权利要求1所述的装置，其中，所述装置包括多个喷嘴，所述主动冷却系统与每个喷嘴相邻设置。

14.如权利要求1所述的装置，还包括设置在所述喷嘴与所述主动冷却系统之间的热绝缘材料。

15.如权利要求4所述的装置，其中，

所述加热系统还包括围绕所述喷嘴缠绕的电阻丝；并且

所述主动冷却系统还包括围绕所述加热系统缠绕的冷却流体管。

16.如权利要求4所述的装置，其中，所述装置还包括具有热侧和冷侧的热电冷却器。

17.如权利要求16所述的装置，其中，所述热电冷却器的所述冷侧是所述主动冷却系统，而所述热电冷却器的所述热侧是所述加热系统的一部分。

18.一种方法，包括：

设置

喷嘴；

与所述喷嘴流体连通的载体气体源和有机分子源；

与所述喷嘴相邻设置的主动冷却系统；以及

附接到所述喷嘴上的加热系统；

通过将由载体气体承载的有机分子喷射穿过所述喷嘴而将所述有机分子沉积到基底上，

其中，当沉积所述有机分子时，

使用所述主动加热系统加热所述喷嘴；并且

冷却所述主动冷却系统。

19.如权利要求18所述的方法，其中，当沉积所述有机分子时，所述基底设置在距所述主动冷却系统0.1mm至10mm的距离处。

20.如权利要求18所述的方法，其中，当沉积所述有机分子时，所述主动冷却系统维持在-100℃至100℃的温度。

21.如权利要求18所述的方法，其中，设有多个所述喷嘴，并且所述主动冷却系统设置为与每个喷嘴相邻。

22.如权利要求21所述的方法，其中，所述有机分子在所述基底的位于所述喷嘴下方的区域中沉积为10nm至5000nm的厚度，而沉积到所述基底的不位于所述喷嘴下方的区域中的有机分子沉积为零至单分子层的厚度。

23.如权利要求18所述的方法，当沉积所述有机分子时，所述喷嘴维持在150℃至400℃的温度。