[发明专利]曝光设备以及装置制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种曝光设备以及装置制造方法，更具体地，涉及在其中通过光学系统利用能量束将物体曝光的曝光设备、以及使用该曝光设备的装置制造方法。

背景技术

常规传统地，在用于制造诸如半导体装置(集成电路等)或液晶显示元件的电子装置(微型装置)的光刻工艺中，主要使用例如步进重复方式的投影曝光设备(所谓的步进器)、或步进扫描方式的投影曝光设备(所谓的扫描步进器(其也被称作扫描器))的曝光设备。

在这些类型的曝光设备中使用的接受到曝光的诸如晶片、玻璃板等的基片正逐渐(例如，在晶片的情况下为每隔十年)变得越来越大。虽然具有300mm直径的300mm晶片是目前的主流，但是具有450mm直径的450mm晶片时代的到来日益临近(例如，参照非专利文献1)。当出现向450mm晶片过渡时，从单个晶片中产生的切片(芯片)的数量变为从目前的300mm晶片中产生的芯片的数量的两倍或更多，其有助于降低成本。此外，有望通过能量、水、以及其它资源的高效使用来降低所有资源使用的成本。

但是，由于晶片的厚度不与晶片的尺寸成比例地增加，所以当相比于300mm晶片，450mm晶片的强度比较弱。因此，即使在解决例如晶片搬运的问题时，也可以预料到，以与目前300mm晶片相同的方法和手段来执行晶片搬运将是困难的。因此，期待能够处理450mm晶片的新系统的出现。

参引列表

非专利文献

[非专利文献1]International Technology Roadmap for Semiconductors(国际半导体技术发展前景)，2007年版。

发明内容

根据本发明的第一方面，提供了第一曝光设备，所述第一曝光设备通过由第一支承构件支承的光学系统利用能量束将物体曝光，所述设备包括：可移动体，所述可移动体保持所述物体并且能够沿预定平面移动；引导表面形成构件，所述引导表面形成构件形成当所述可移动体沿所述预定平面移动时所使用的引导表面；第二支承构件，所述第二支承构件布置成通过所述引导表面形成构件在与所述光学系统相对的一侧与所述引导表面形成构件隔开，并且所述第二支承构件与所述第一支承构件的位置关系维持在预定关系；包括第一测量构件的位置测量系统，所述第一测量构件利用测量束照射平行于所述预定平面的测量表面并接收来自所述测量表面的光，并且所述位置测量系统基于所述第一测量构件的输出获取所述可移动体在所述预定平面内的位置信息，所述测量表面设置在所述可移动体和所述第二支承构件中的一个处，并且所述第一测量构件的至少一部分设置在所述可移动体和所述第二支承构件中的另一个处；驱动系统，所述驱动系统基于所述可移动体在所述预定平面内的位置信息驱动所述可移动体；以及搬运系统，所述搬运系统具有至少一个以非接触方式从上方保持所述物体的吸盘构件，并且搬运系统使用所述吸盘构件将所述物体装载到所述可移动体上以及将所述物体从所述可移动体卸载。

根据该设备，搬运系统使用以非接触方式从上方保持物体的吸盘构件将物体装载到可移动体上以及将物体从可移动体卸载。因此，不必设置将物体装载到可移动体上或将物体从可移动体卸载的构件等，其可以避免可移动体尺寸和重量增加。此外，通过使用以非接触方式从上方保持物体的吸盘构件，薄的、柔性的物体可以没有任何问题地装载互可移动体上以及从可移动体卸载。

在此情况下，引导表面用于在与预定平面正交的方向上引导可移动体，并且可以是接触式的或非接触式的。例如，非接触式引导方法包括使用例如空气垫的静态气体轴承的构造、使用磁悬浮的构造等等。此外，引导表面不限于其中可移动体随从引导表面的形状而被引导的构造。例如，在使用诸如空气垫之类的静态气体轴承的构造中，引导表面形成构件的与可移动体相对的相对表面被精加工成具有高平面度，并且可移动体经由预定间隙以非接触方式被引导以随从所述相对的表面的形状。另一方面，在如下的构造中，其中，尽管使用电磁力的马达等的一部分布置在引导表面形成构件处，但该马达等的一部分也布置在可移动体处，在与上述预定平面正交的方向上作用的力通过引导表面形成构件与可移动体的配合而产生，可移动体的位置由预定平面上的力控制。例如，还包括这样的构造，其中，平面马达设置在引导表面形成构件处，并且使包括在预定平面内彼此正交的两个方向以及与预定平面正交的方向的方向上的力在可移动体上产生，并且可移动体在不设置静态气体轴承的情况下以非接触方式悬浮。