[发明专利]向液体供给离子的方法和装置以及杀菌方法和装置有效
申请号: | 201080038961.1 | 申请日: | 2010-08-31 |
公开(公告)号: | CN102625730A | 公开(公告)日: | 2012-08-01 |
发明(设计)人: | 北野胜久 | 申请(专利权)人: | 国立大学法人大阪大学 |
主分类号: | B01J19/08 | 分类号: | B01J19/08;A61L2/18;B01J4/00;C02F1/50 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香兰;褚瑶杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 液体 供给 离子 方法 装置 以及 杀菌 | ||
1.一种向液体供给离子的方法,其是将离子供给于液体的方法,该方法的特征在于,利用等离子体发生装置在气相中产生等离子体,利用所述等离子体在气相中生成离子,利用施加于所生成的离子的电场使所述离子向所述液体电泳。
2.如权利要求1所述的向液体供给离子的方法,其中,对于所述等离子体发生装置,按照由其产生的等离子体不与所述液体接触的方式来进行配置。
3.如权利要求1或2所述的向液体供给离子的方法,其中,所述等离子体发生装置具备气体供给管、设置于所述气体供给管的出口附近的高电位电极和向所述高电位电极施加预定频率的交流电压的电源装置,所述电源装置的一个输出端与所述高电位电极连接,另一个输出端连接于与液体接触的电极和地线,利用所述电源装置,将直流偏置电压实质性地施加于所述高电位电极与所述液体之间,由此向所述离子施加电场。
4.一种向液体供给离子的装置,其是将离子供给于液体的装置,该装置的特征在于,其具有放电装置和电源装置,所述放电装置在气相中进行放电,所述电源装置通过将直流偏置电压施加于所述放电装置与所述液体之间来向所述放电装置和所述液体之间施加电场。
5.一种向液体供给离子的装置,其是将离子供给于液体的装置,该装置的特征在于,其具有等离子体发生装置和电源装置,所述等离子体发生装置在气相中产生等离子体,所述电源装置通过将直流偏置电压施加于所述等离子体发生装置与所述液体之间来向所述等离子体与所述液体之间施加电场。
6.一种向液体供给离子的装置,其是将离子供给于液体的装置,该装置的特征在于,其具有:
用于将气体供给于气相中的气体供给管、
设置在所述气体供给管的出口附近的高电位电极、和
将含有预定频率的交流电压分量和直流偏置电压分量的电压施加于所述高电位电极与所述液体之间的电源装置。
7.如权利要求6所述的向液体供给离子的装置,其中,所述电源装置以预定频率在所述高电位电极与所述液体之间施加在0伏特与预定伏特之间反复的矩形波的电压。
8.一种杀菌方法,其是将存在于液体之中或表面的微生物杀死的方法,该方法的特征在于,利用等离子体发生装置在气相中产生等离子体,利用所述等离子体在气相中生成自由基,利用施加于所生成的自由基的电场使所述自由基向所述液体电泳,并使所述自由基在所述液体中扩散。
9.如权利要求8所述的杀菌方法,其中,对所述液体进行调整使其pH为4.8以下。
10.一种杀菌装置,其是将存在于液体之中或表面的微生物杀死的装置,该装置的特征在于,其具有:
用于将气体供给于气相中的气体供给管、
设置在所述气体供给管的出口附近的高电位电极、和
将含有预定频率的交流电压分量和使所述高电位电极为负的直流偏置电压分量的电压施加于所述高电位电极与所述液体之间的电源装置。
11.如权利要求10所述的杀菌装置,其中,所述杀菌装置具有将所述液体的pH调整为4.8以下的pH调整装置。
12.一种杀菌装置,其是将存在于对象物之中或表面的微生物杀死的装置,该装置的特征在于,其具有:
能够将所述对象物的至少一部分包围并密闭的壳体;
供给pH调整物质以使所述对象物的至少一部分的pH为4.8以下的pH调整部;
在所述壳体的内部生成等离子体的等离子体产生装置;
电源装置,所述电源装置施加电压,提供电场,使在所述壳体的内部利用等离子体生成的自由基向所述对象物电泳;
向所述壳体的内部导入含有氮气的气氛气体的导入部;和
排出所述气氛气体的排出部。
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