[发明专利]二氧化硅粉、二氧化硅容器及该粉或容器的制造方法有效

专利信息
申请号: 201080036839.0 申请日: 2010-09-01
公开(公告)号: CN102482137A 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 山形茂;笛吹友美 申请(专利权)人: 信越石英株式会社
主分类号: C03B20/00 分类号: C03B20/00;C01B33/18;C30B15/10;C30B29/06
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 崔香丹;张永康
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 二氧化硅 容器 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种二氧化硅粉,是二氧化硅容器制造用的二氧化硅粉,其特征在于,

粒径为10~1000μm,

含有合计浓度为50~5000重量ppm的Ca、Sr、Ba,且

在真空下加热至1000℃时的氢分子的放出量为3×1016~3×1019分子/g。

2.如权利要求1所述的二氧化硅粉,其中,前述二氧化硅粉,含有浓度为10~100重量ppm的Al。

3.如权利要求1或2所述的二氧化硅粉,其中,

前述含有的Ba的浓度是100~1000重量ppm,且在前述真空下加热至1000℃时的氢分子的放出量为5×1016~5×1018分子/g,

前述二氧化硅粉所含有的Li、Na、K的各个浓度在60重量ppb以下。

4.一种二氧化硅粉的制造方法,是二氧化硅容器制造用的二氧化硅粉的制造方法,其特征在于,包含:

制作工序,其制作由二氧化硅所构成的粉末,该粉末的粒径为10~1000μm,并含有Ca、Sr、Ba的至少一种;

投入工序,其将前述粉末投入具有气密性的加热炉内;

减压排气工序,其将前述加热炉内减压排气至103Pa以下;

热处理工序,其将含有10~100体积%的氢气的气体,导入前述加热炉内,将含氢气体环境的压力设为1~100kgf/cm2,而温度设为200~800℃;以及

冷却工序,其将前述加热炉内的含氢气体环境的压力持续保持在1kgf/cm2以上,并将前述粉末冷却至50℃以下。

5.如权利要求4所述的二氧化硅粉的制造方法,其中,在前述粉末中,含有合计浓度为50~5000重量ppm的Ca、Sr、Ba。

6.如权利要求4或5所述的二氧化硅粉的制造方法,其中,在前述粉末中,分别含有浓度为100~1000重量ppm的Ba、及浓度为10~100重量ppm的Al。

7.一种二氧化硅容器,其特征在于,具备:基体,其具有旋转对称性,以二氧化硅作为主成分,且至少在外周部分含有气泡;及内层,其被形成在该基体的内表面上,并由透明二氧化硅玻璃所构成;

并且,前述基体的Li、Na、K的合计浓度为50重量ppm以下;

前述内层,其含有合计浓度为50~5000重量ppm的Ca、Sr、Ba,且切出厚度是10mm的试料时的光波长600nm的光透过率是91.8~93.2%。

8.如权利要求7所述的二氧化硅容器,其中,前述内层含有浓度为10~100重量ppm的Al。

9.如权利要求7或8所述的二氧化硅容器,其中,

前述内层中的Li、Na、K的各个浓度在60重量ppb以下,Ba的浓度是100~1000重量ppm,且由前述内层切出的试料在真空下加热至1000℃时的氢分子的放出量未满1×1016分子/g。

10.一种二氧化硅容器的制造方法,其特征在于,

用以制造二氧化硅容器,该二氧化硅容器具备:基体,其具有旋转对称性,以二氧化硅作为主成分,且至少在外周部分含有气泡;及内层,其被形成在该基体的内表面上,并由透明二氧化硅玻璃所构成,

其中,所述二氧化硅容器的制造方法,准备二氧化硅粉来作为用以形成前述内层的原料粉,并使用该内层形成用原料粉即二氧化硅粉,在前述基体的内表面上形成前述内层,该二氧化硅粉,其粒径为10~1000μm,含有合计浓度为50~5000重量ppm的Ca、Sr、Ba,且在真空下加热至1000℃时的氢分子的放出量为3×1016~3×1019分子/g。

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