[发明专利]磁性薄膜的制造方法、磁性薄膜及磁性体有效

专利信息
申请号: 201080026856.6 申请日: 2010-06-24
公开(公告)号: CN102473519A 公开(公告)日: 2012-05-23
发明(设计)人: 大越慎一;生井飞鸟;高见和之;富田浩太郎 申请(专利权)人: 国立大学法人东京大学;同和电子科技有限公司
主分类号: H01F41/16 分类号: H01F41/16;C01G49/00;C09D5/23;C09D7/12;C09D201/00;G11B5/706;G11B5/845;H01F10/22
代理公司: 北京市浩天知识产权代理事务所 11276 代理人: 雒纯丹
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 磁性 薄膜 制造 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及磁性薄膜的制造方法、磁性薄膜及磁性体,例如适用于将具有永磁体功能的ε-Fe2O3在成膜对象上成膜的适宜材料。

背景技术

以往,作为属于纳米级粒子,同时在室温条件下表现出20kOe这样的巨大矫顽力的材料,已知有ε-Fe2O3的晶体结构体(例如,参见非专利文献1、非专利文献2及非专利文献3)。

另外,在具有绝缘性的同时也具有永磁体功能的ε-Fe2O3是通过将前体在约1000℃下焙烧而制作的。因此,制作具有ε-Fe2O3晶体结构体的磁性膜等磁性体时,使用将通过焙烧处理制成的ε-Fe2O3粒子在规定的粘结剂成分共存下形成涂布液,然后涂布在膜等成膜对象上的制造方法;或者将ε-Fe2O3粒子分散在熔融或溶解的热塑性树脂材料或热固性树脂材料等树脂材料中,然后通过挤出成型法或注射成型法等成型方法来进行制作的制造方法。

现有技术文献

非专利文献

非专利文献1:Jian Jin,Shinichi Ohkoshi and Kazuhito Hashimoto(作者),ADVANCED MATERIALS 2004,16,No.1,January 5,pp.48-51(《先进材料》,2004年第16卷第1期,1月5日,第48-51页)

非专利文献2:Jian Jin,Kazuhito Hashimoto and Shinichi Ohkoshi(作者),JOURNAL OF MATERIALS CHIMISTRY 2005,15,pp.1067-1071(《材料化学杂志》,2005年第15期,第1067-1071页)

非专利文献3:Shunsuke Sakurai,Jian Jin,Kazuhito Hashimoto and Shinichi Ohkoshi(作者),JOURNAL OF THE PHYSICAL SOCIETY OF JAPAN Vol.74,No.7,July,2005,pp.1946-1949(《日本物理学会杂志》,第74卷,第7期,7月,2005年,第1946-1949页)

发明内容

发明所要解决的问题

可是,对于具有ε-Fe2O3晶体结构体且通过上述制造方法制作的磁性体,如图16所示,剩余磁化强度Mr相对于饱和磁化强度Ms之比(以下也将其称为矩形比)Mr/Ms为0.5左右,对ε-Fe2O3晶体结构体固有的磁特性仅仅可以利用一半左右。

因此,将磁性体应用于磁记录等领域中时,由于该磁性体的剩余磁化变得重要,因此,即使对于具备在具有绝缘性的同时具有永磁体功能的ε-Fe2O3晶体结构体的磁性体,也期待着与以前相比提高剩余磁化。

因而鉴于上述问题,本发明的目的在于,提供在具有绝缘性的同时具备具有永磁体功能,并且与以往相比剩余磁化能够得到提高的磁性薄膜的制造方法、磁性薄膜及磁性体。

解决问题的手段

权利要求1涉及的发明的特征在于,具备:将含有包含具有绝缘性同时具有永磁体功能的ε型氧化铁系化合物的磁性粒子的涂布液,涂布在成膜对象上的涂布工序;和在对涂布于前述成膜对象上的前述涂布液施加规定强度的外部磁场的状态下,使前述涂布液固化而形成磁性薄膜的形成工序。

另外,权利要求2涉及的发明的特征在于,前述磁性粒子由球状或棒状组成。

另外,权利要求3涉及的发明的特征在于,前述磁性粒子由球状组成,前述涂布工序中使用前述溶液粘度为约50cP以下的涂布液。

另外,权利要求4涉及的发明的特征在于,前述形成工序中前述外部磁场的强度为约2T以上。

另外,权利要求5涉及的发明的特征在于,前述涂布工序中使用的前述涂布液是由磁性材料浆液制作的,所述磁性材料浆液按照将含有99重量%以上前述ε型氧化铁系化合物的磁性粒子分散在溶液中的方式含有磁性粒子,且前述磁性粒子的动态光散射法平均粒径与通过透射型电子显微镜观察到的观察平均粒径之比为5以下。

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