[发明专利]试样分析芯片、采用该试样分析芯片的试样分析装置和试样分析方法、以及试样分析芯片的制造方法有效

专利信息
申请号: 201080014320.2 申请日: 2010-03-30
公开(公告)号: CN102369443A 公开(公告)日: 2012-03-07
发明(设计)人: 小泽知之;西嶋奈绪;殷明 申请(专利权)人: 凸版印刷株式会社
主分类号: G01N35/00 分类号: G01N35/00;C12M1/00;C12Q1/68;G01N37/00
代理公司: 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人: 崔香丹;洪燕
地址: 日本国*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 试样 分析 芯片 采用 装置 方法 以及 制造
【权利要求书】:

1.一种试样分析芯片,在基材上具有多个加样孔、与各加样孔连接的流路和向流路注入溶液的注入口,并通过旋转该基材,将溶液分配给各个加样孔,其特征在于,

所述流路具有用于向上述各加样孔输送液体的主流路,该主流路设置在比所述加样孔更接近旋转中心侧的位置,且在相邻加样孔之间具有相对于旋转中心方向的一个山部。

2.如权利要求1所述的试样分析芯片,其特征在于,在所述主流路的山部和山部之间的谷部,连接所述加样孔和主流路。

3.如权利要求1或2所述的试样分析芯片,其特征在于,相对而言,所述主流路的宽度在山部狭窄,在谷部宽。

4.如权利要求1~3中任一项所述的试样分析芯片,其特征在于,所述基材为圆盘状,所述加样孔配置成与所述基材呈同心圆状。

5.如权利要求1~4中任一项所述的试样分析芯片,其特征在于,具有连接所述主流路和加样孔的侧路。

6.如权利要求5所述的试样分析芯片,其特征在于,相对于旋转中心方向倾斜而形成所述侧路。

7.如权利要求1~6中任一项所述的试样分析芯片,其特征在于,相对于旋转中心方向倾斜而形成所述主流路。

8.如权利要求1~7中任一项所述的试样分析芯片,其特征在于,

具有用于连接所述主流路和加样孔的侧路,

且在所述侧路上设置有用于收集剩余溶液的废液部。

9.如权利要求8所述的试样分析芯片,其特征在于,所述废液部包括用于收集废液的废液室以及对所述侧路进行分支且与所述废液室相连接的废液室分支流路。

10.如权利要求8所述的试样分析芯片,其特征在于,

相对于旋转中心方向倾斜而形成所述侧路,

且相对于旋转中心方向,所述废液部设置在侧路的内侧。

11.如权利要求9或10所述的试样分析芯片,其特征在于,

与所述加样孔连通的分支流路的送液时压力损失小于与所述废液室连通的分支流路的送液时压力损失。。

12.如权利要求11所述的试样分析芯片,其特征在于,与所述加样孔连接的分支流路的截面积大于所述废液室分支流路的截面积。

13.如权利要求11所述的试样分析芯片,其特征在于,与所述加样孔连接的分支流路的表面粗糙度小于废液室分支流路的表面粗糙度。

14.如权利要求11所述的试样分析芯片,其特征在于,对废液室分支流路的流路内表面进行疏水处理。。

15.如权利要求11所述的试样分析芯片,其特征在于,对与加样孔连接的分支流路的流路内表面进行亲水处理。

16.如权利要求1~15中任一项所述的试样分析芯片,其特征在于,所述试样分析芯片具有:形成有所述加样孔和所述流路的第一基材;以及与该基材贴合的第二基材。

17.如权利要求16所述的试样分析芯片,其特征在于,所述基材中的任一者由光透过性材料形成。

18.如权利要求17所述的试样分析芯片,其特征在于,所述第一基材为光透过性树脂材料,第二基材为金属材料。

19.如权利要求17所述的试样分析芯片,其特征在于,所述第一基材由对可见光具有光透过性且对红外线具有光吸收性的树脂构成,所述第二基材是至少透过波长800nm以上的红外线的板状或膜状。

20.如权利要求19所述的液体试样分析用芯片,其特征在于,所述第一基材为聚丙烯、聚碳酸酯、丙烯酸树脂中的任意树脂基材。

21.如权利要求19或20所述的试样分析芯片,其特征在于,所述第一基材含有在800nm以上的波长区域具有吸收的红外线吸收剂。

22.如权利要求1~3中任一项所述的液体试样分析用芯片,其特征在于,所述第二基材为聚丙烯、聚碳酸酯、丙烯酸树脂中的任意树脂基材。

23.如权利要求1~23中任一项所述的试样分析芯片,其特征在于,所述第二基材的厚度为0.05~0.5mm。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于凸版印刷株式会社,未经凸版印刷株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201080014320.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top