[发明专利]成像光学部件以及具有该类型成像光学部件的用于微光刻的投射曝光装置

权利要求书

1.具有至少六个反射镜(M1至M8)的成像光学部件(7；28)，该成像光学部件将物平面(5)中的物场(4)成像到像平面(9)中的像场(5)，其中，

-从物场(4)彼此相隔的点发出的主光线(16)具有相互发散的光束路线，

-该反射镜(M1、M8)中的至少一个具有用于成像光(3)通过的通孔(19)，

-在该物场(4)与该通孔(19)的第一者之间的成像光束路径中设置有光瞳，该成像光(3)通过该光瞳一次，以及在该光瞳中布置有用于对该成像光学部件(7；28)的入瞳进行中心遮拦的遮挡光阑(20)，

-在该物场(4)后的成像光束路径中直接在第二反射镜(M2)之后的第一成像部分光束(24)与在该物场(4)后的成像光束路径中直接在第四反射镜(M4)之后的第二成像部分光束(25)在交叉区域(26)中彼此相交。

2.如权利要求1所述的成像光学部件，其特征在于，该成像光学部件精确地具有8个反射镜(M1至M8)。

3.如权利要求1或2所述的成像光学部件，其特征在于，在具有该被经过一次的光瞳的光瞳平面(17)中还布置有孔径光阑，用于预先确定该成像光学部件(7；28)的光瞳的外侧形式。

4.如权利要求1至3中任一权利要求所述的成像光学部件，其特征在于，具有该被经过一次的光瞳的该光瞳平面(17)布置在该物场(4)后的成像光束路径中该第二(M2)与该第三(M3)反射镜之间。

5.如权利要求1至4中任一权利要求所述的成像光学部件，其特征在于，与该成像光束路径中的第四反射镜(M4)相比，该成像光束路径中的第二反射镜(M2)距离该物平面(5)较远。

6.如权利要求1至5中任一权利要求所述的成像光学部件，其特征在于，该物场(4)和该像场(8)之间的成像光束路径中有两个中间像平面(22、23)。

7.如权利要求6所述的成像光学部件，其特征在于，该第一中间像平面(22)布置在成像光束路径中该第二反射镜(M2)与该第三反射镜(M3)之间。

8.如权利要求6或7所述的成像光学部件，其特征在于，该第二中间像平面(23)布置在成像光束路径中该第六反射镜(M6)和第七反射镜(M7)之间。

9.如权利要求1至8中任一权利要求所述的成像光学部件，其特征在于，在该光瞳平面(17)中，中心光瞳遮拦至多为该成像光(3)的光束直径的30％。

10.如权利要求1至9中任一权利要求所述的成像光学部件，其特征在于，最大波前误差为70mλ。

11.如权利要求1至10中任一权利要求所述的成像光学部件，其特征在于，最大畸变为10nm。

12.如权利要求1至11中任一权利要求所述的成像光学部件，其特征在于，第一部分物镜仅由不具有用于该成像光(3)通过的通孔的反射镜(M1至M2)构成，以及第二部分物镜具有至少一个反射镜(M7、M8)，该反射镜(M7、M8)具有用于该成像光(3)通过的通孔(19)。

13.如权利要求1至12中任一权利要求所述的成像光学部件，其特征在于，该成像光学部件配置为反射光学系统。

14.如权利要求1至13中任一权利要求所述的成像光学部件，其特征在于，该成像光学部件(7；28)配置为用于微光刻的投射光学部件。

15.具有如权利要求14所述的投射光学部件和用于将照明光(3)引导到该成像光学部件(7；28)的物场(4)的照明光学部件(6)的光学系统。

16.具有如权利要求15所述的光学系统和照明及成像光(3)的光源(2)的投射曝光装置。

17.如权利要求16所述的投射曝光装置，其特征在于，产生照明光(3)的该光源(2)配置为具有5nm至30nm之间的波长。

18.用于产生结构化元件的方法，该方法包括如下方法步骤：

-提供掩模母版(10)和晶片(11)，

-借助于如权利要求16或17所述的投射曝光装置将该掩模母版(10)上的结构投射到该晶片(11)的光敏层上，

-在该晶片(11)上产生微米结构或纳米结构。

19.通过如权利要求18所述的方法产生的结构化元件。