[实用新型]电弧离子镀膜装置

权利要求书

1.一种电弧离子镀膜装置，其特征在于：该电弧离子镀膜装置设有真空室、工件磁场线圈支撑圆筒Ⅰ、工件磁场线圈、工件辅助电极、等离子体束流Ⅰ、等离子体聚焦磁场线圈支撑圆筒Ⅰ、等离子体聚焦磁场线圈Ⅰ、阴极靶Ⅰ、阴极靶电源、脉冲偏压电源和工件台，具体结构如下：

真空室内设置工件、工件磁场线圈支撑圆筒Ⅰ、工件磁场线圈、工件辅助电极和工件台，工件磁场线圈设置于工件磁场线圈支撑圆筒Ⅰ的外侧，工件磁场线圈和工件磁场线圈支撑圆筒Ⅰ设置于工件台上，工件辅助电极的一端伸至工件的工件内孔中，电极的另一端通过导线连至脉冲偏压电源的正极，工件台通过导线连至脉冲偏压电源的负极；

真空室的一侧设置等离子体聚焦磁场线圈支撑圆筒Ⅰ、等离子体聚焦磁场线圈Ⅰ、阴极靶Ⅰ，等离子体聚焦磁场线圈Ⅰ设置于等离子体聚焦磁场线圈支撑圆筒Ⅰ的外侧，阴极靶Ⅰ的一端伸至等离子体聚焦磁场线圈支撑圆筒Ⅰ中，阴极靶电源的正极连接真空室的外壳，阴极靶电源的负极连接阴极靶Ⅰ。

2.按照权利要求1所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于：还包括阴极靶Ⅱ、等离子体聚焦磁场线圈Ⅱ、等离子体聚焦磁场线圈支撑圆筒Ⅱ，真空室的另一侧设置阴极靶Ⅱ、等离子体聚焦磁场线圈Ⅱ、等离子体聚焦磁场线圈支撑圆筒Ⅱ，等离子体聚焦磁场线圈Ⅱ设置于等离子体聚焦磁场线圈支撑圆筒Ⅱ的外侧，阴极靶Ⅱ的一端伸至等离子体聚焦磁场线圈支撑圆筒Ⅱ中。

3.按照权利要求1或2所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于：工件磁场线圈的磁场采用均匀磁场或梯度磁场。

4.按照权利要求2所述的电弧离子镀膜装置，其特征在于：阴极靶Ⅰ与阴极靶Ⅱ共用阴极靶电源。