[实用新型]多晶硅还原炉进料喷嘴有效
申请号: | 201020242527.2 | 申请日: | 2010-06-30 |
公开(公告)号: | CN201785200U | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 王勃;邱健源;龙兴文;陈强 | 申请(专利权)人: | 峨嵋半导体材料研究所 |
主分类号: | C01B33/03 | 分类号: | C01B33/03 |
代理公司: | 成都九鼎天元知识产权代理有限公司 51214 | 代理人: | 徐宏;吴彦峰 |
地址: | 614200 四*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 多晶 还原 进料 喷嘴 | ||
1.一种多晶硅还原炉进料喷嘴,连接在还原炉底盘的进料口处,其特征在于:所述进料喷嘴上部为喷嘴段,下部为连接段,所述进料喷嘴内部设有喷嘴孔,所述进料喷嘴与还原炉底盘的连接方式为可拆卸式连接。
2.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉进料喷嘴,其特征在于:所述还原炉炉底盘的进料口内壁设有内螺纹,所述进料喷嘴的连接段外部设有和底盘进料口内壁内螺纹配合的外螺纹。
3.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉进料喷嘴,其特征在于:所述进料喷嘴内部的喷嘴孔的直径为5-20mm 。
4.根据权利要求1所述的多晶硅还原炉进料喷嘴,其特征在于:所述进料喷嘴的喷嘴段的高度为3-20mm。
5.根据权利要求1至4任意一项所述的多晶硅还原炉进料喷嘴,其特征在于:所述进料喷嘴的喷嘴段上设有六角形的扳手夹持段。
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