[实用新型]一种四阶魔方无效

专利信息
申请号: 201020120363.6 申请日: 2010-03-01
公开(公告)号: CN201701731U 公开(公告)日: 2011-01-12
发明(设计)人: 李潇潇 申请(专利权)人: 李潇潇
主分类号: A63F9/08 分类号: A63F9/08;G09B19/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 313000 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 魔方
【权利要求书】:

1.一种四阶魔方,由八个露出三个外表面的边角模块(1)、二十四个露出两个外表面的棱边模块(2)和二十四个露出一个外表面的中心模块(3)连接而成,其特征在于:

所述中心模块(301)露出的外表面成型有一凹槽(301),凹槽(301)内成型有两个定位圆柱(302),一长方体的第一拼字块(4)安装在所述凹槽(301)内,所述第一拼字块(4)一侧面成型的两个第一定位圆孔(401)与所述定位圆柱(302)过渡配合安装,所述第一拼字块(4)一表面成型有汉字偏旁或者部首刻痕;

所述棱边模块(2)两个露出的外表面均成型有一凹槽(201),凹槽(201)内成型有两个定位圆柱(202),一长方体的第二拼字块(5)安装在所述凹槽(201)内,所述第二拼字块(5)一侧面成型的两个第二定位圆孔(501)与所述定位圆柱(202)过渡配合安装,所述第一拼字块(4)一表面成型有汉字偏旁或者部首刻痕;

所述边角模块(1)三个露出的外表面均成型有一凹槽(101),凹槽(101)内成型有两个定位圆柱(102),一长方体的第三拼字块(6)安装在所述凹槽(101)内,所述第三拼字块(6)一侧面成型的两个第三定位圆孔(601)与所述定位圆柱(102)过渡配合安装,所述第三拼字块(6)一表面成型有汉字偏旁或者部首刻痕。

2.根据权利要求1所述的一种四阶魔方,其特征在于:所述第一拼字块(4)另一侧面成型有两个第四定位圆孔(402),并且该 侧面也成型有汉字偏旁或者部首刻痕。

3.根据权利要求1所述的一种四阶魔方,其特征在于:所述第二拼字块(5)另一侧面成型有两个第五定位圆孔(502),并且该侧面也成型有汉字偏旁或者部首刻痕。

4.根据权利要求1所述的一种四阶魔方,其特征在于:所述第三拼字块(6)另一侧面成型有两个第六定位圆孔(602),并且该侧面也成型有汉字偏旁或者部首刻痕。 

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