[发明专利]对烷基取代-四氟苯乙酸、合成方法及其用途有效
| 申请号: | 201010547265.5 | 申请日: | 2010-11-17 |
| 公开(公告)号: | CN102020553A | 公开(公告)日: | 2011-04-20 |
| 发明(设计)人: | 闻建勋;孙冲;荣园园;秦川;田瑞文 | 申请(专利权)人: | 上海天问化学有限公司 |
| 主分类号: | C07C57/58 | 分类号: | C07C57/58;C07C51/09;C07C67/14;C07C69/78;C09K19/20 |
| 代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 邬震中 |
| 地址: | 200232*** | 国省代码: | 上海;31 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 烷基 取代 苯乙酸 合成 方法 及其 用途 | ||
技术领域
本发明涉及一种对烷基取代-四氟苯乙酸、合成方法以及用途。
背景技术
液晶显示器(LCDs)作为计算器及数字钟表的显示器件,最初出现在20世纪70年代的初期。从字处理机(word processor)及个人文字助理(PDAs)到笔记本电脑、台式电脑及电视正在普及到人们的日常生活之中。LCD工业正在成长为巨大的产业。对薄膜晶体管液晶显示器(TFT LCDs)而言,为了要在电视机市场站稳脚跟而且不断扩大市场占有份额,它的动画的清晰度、高亮度以及高速响应是非常重要的。
对于应用于LCD的液晶,它应当具有良好的化学稳定性、光化学稳定性、热稳定性,以及抗电场及电磁干扰的良好稳定性。另外,它应当具有低黏度、低阈值电压、高对比度,而且工作温度在室温上下尽可能要宽。由于必须与其它的成分混合使用,它应该具有良好的混溶性。简而言之,对于高品质的LCD,液晶必须具备合适的物理性质:宽的向列相温度范围、高的电阻率、合适的双折射系数以及高的介电各向异性。
人们期待有更多的合成液晶原料,能够合成具有宽的向列相温度范围,使得具有低黏度及高的电阻率,可以用作TFT液晶的组分,使液晶材料的性质得到改善。
发明内容
本发明目的是提供一种对烷基取代-四氟苯乙酸、合成方法以及用途。
本发明的对烷基取代-四氟苯乙酸具有如下的结构式:
其中,R为C2-6的烷基。
本发明的对烷基取代-四氟苯乙酸的合成方法
本发明的方法可以采用反应式描述如下:
其中R1为C1-5的烷基,R为C2-6的烷基
a)Mg,THF;CnH2nO,四氢呋喃;b)P2O5,C6H14;c)H2,Pd/C(5%);d)K2CO3,NCCH2COOEt,N-甲基吡咯烷酮)NaOH,H2O。
具体地说通过如下1)-5)的步骤获得:
(1)在有机溶剂中和回流温度下,五氟溴苯和镁反应0.5-2小时,冷却至室温,滴加C2-6的醛回流温度下反应0.1-1.0小时获得1-五氟苯基R1取代的烷基醇;其中,五氟溴苯、镁和C2-6的醛的摩尔比为1∶1~1.3∶0.8~1.2。反应产物可以采用有机溶剂提取、蒸馏等方法纯化。
(2)在有机溶剂中和室温至50℃时,将步骤(1)获得的1-五氟苯基R1取代的(注意烷基的长度变化)烷基醇和五氧化二磷反应1-2小时获得2-R烯基取代的五氟苯,所述的1-五氟苯基R1取代的烷基醇和五氧化二磷的摩尔比为1∶1-4。
(3)在有机溶剂中,步骤(2)获得的产物2-R烯基取代的五氟苯和含有5%重量Pd的Pd/C,在通H2和1-5MPa下,反应1-4小时得R取代的五氟苯,其中,2-R烯基取代的五氟苯和5%Pd/C的重量比为1∶8~10。
(4)步骤(3)中的产物与N-甲基吡咯烷酮、氢化钠、氰乙酸乙酯在90-120℃反应1-3小时,酸化后得2-氰基-2,3,5,6-四氟-4-R基苯乙酸乙酯;所述的R基五氟苯与氢化钠、氰乙酸乙酯的摩尔比为1∶1.5~3∶1.5~3;
(5)步骤(4)中的产物与氢氧化钠水溶液在70-100℃下反应12-24小时后酸化,得到2,3,5,6-四氟-4-R基苯乙酸;所述的2-氰基-2,3,5,6-四氟-4-R基苯乙酸乙酯和氢氧化钠的摩尔比为1∶4-8;氢氧化钠水溶液浓度为5-10%。
其中,R定义如前所述;所述的有机溶剂是四氢呋喃(THF)、正己烷、CH2Cl2、CH3Cl或石油醚。
本发明的化合物不仅合成方法简便,而且这种含氟苯乙酸可以作为中间体方便地转化为四氟苯基亚乙基,合成各类新型液晶,有广泛的工业用途适合用于制备液晶化合物。尤其是适合制备4-(2,3,5,6-四氟-R取代基苯乙基)苯甲酸-4′-氟-4-联苯酯的含氟液晶化合物,其中,R为C2-6的烷基。该液晶由于具有烷基取代的四氟苯基亚乙基,具有宽的向列相温度范围,可能具有低黏度及高的电阻率,可以用作TFT液晶的组分,使液晶材料的性质得到改善。
具体实施方式
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海天问化学有限公司,未经上海天问化学有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010547265.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





