[发明专利]冶金铸机双摆角式辊缝测量装置有效

专利信息
申请号: 201010540772.6 申请日: 2010-11-11
公开(公告)号: CN102039390A 公开(公告)日: 2011-05-04
发明(设计)人: 赵杰;刘玉斌 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: B22D11/16 分类号: B22D11/16;G01B21/02
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 张果瑞
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要:
搜索关键词: 冶金 铸机双摆角式辊缝 测量 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及冶金铸机双摆角式辊缝测量装置,属于冶金领域。

背景技术

连铸机工艺和设备维护人员通过对测量结果进行分析,可以明确连铸机设备存在问题的区域,这些问题如不及时发现和解决,将导致连铸钢坯质量降级、浇铸过程漏钢、出现表面和内部裂纹及中心线偏析等问题。

目前铸机辊缝测量的装置主要有两种形式:接触式和非接触式,由于非接触式测量在铸机工作现场受环境影响较大,其中温度、电磁干扰、清洗环节、灰尘杂质等对非接触式测量影响都比较大,因此到目前为止非接触式测量并不十分有效。在接触式测量中,分为直线式和摆角式等,直线式具有测量结构简单、准确的特点,但这种装置在辊缝中的通过性较差,这影响了该方式在实际生产过程中的应用。摆角式在辊缝中的通过性较好,但是目前摆角式辊缝仪在温度变化剧烈、电磁干扰大、冷却水喷射恶劣环境下无法正常工作。

发明内容

本发明目的是为了解决目前摆角式辊缝仪在温度变化剧烈、电磁干扰大、冷却水喷射恶劣环境下无法正常工作的问题,提供了一种冶金铸机双摆角式辊缝测量装置。

本发明冶金铸机双摆角式辊缝测量装置,所述冶金铸机双摆角式辊缝测量装置设置在治金铸机的引锭链本体的尾节上,所述冶金铸机双摆角式辊缝测量装置包括接触摆动机构和测量机构,测量机构包括上测量摆臂、下测量摆臂、弹簧、位移传感器和测量模块,弹簧和位移传感器位于上测量摆臂和下测量摆臂之间,接触摆动机构包括上接触块和下接触块,上接触块设置在上测量摆臂上,下接触块设置在下测量摆臂上,上测量摆臂的回转中心距离引锭链本体的上边缘的距离等于下测量摆臂的回转中心距离引锭链本体的下边缘的距离,并且所述距离的二倍小于引锭链本体上、下边缘之间的距离;并且上测量摆臂的回转中心与下测量摆臂的回转中心沿引锭链长度方向的距离大于零,上测量摆臂和下测量摆臂的回转半径相同。

本发明的优点:

1、本发明采用双摆角式的测量原理,避免传统剪刀式测量中存在的方法误差,同时因为是双摆角式,是辊缝以结构简单、因为结构而引起的故障率大大降低;

2、辊缝仪的安装位置在引锭链的尾节,这种安装方式能够保证辊缝仪距离热源相对较远,为测量系统可靠的工作提供了有效的保证,能有效穿越连铸机辊缝,能够保证其在故障情况下不会影响当前连铸机的工作。;

3、抗电磁干扰、抗震动、抗冷却水喷射的机构设计,都是为辊缝仪的可靠工作提供保证。

附图说明

图1是本发明所述辊缝测量装置安装在引锭链上的结构示意图;

图2是本发明所述辊缝测量装置的结构示意图;

图3是采用本发明装置测量辊缝的原理图;

图4是辊缝标识图;

图5是引锭链本体结构示意图;

图6是本发明装置封装示意图;

图7是测量模块的结构框图。

具体实施方式

具体实施方式一:下面结合图1至图7说明本实施方式,本实施方式冶金铸机双摆角式辊缝测量装置,所述冶金铸机双摆角式辊缝测量装置设置在治金铸机的引锭链本体的尾节上,所述冶金铸机双摆角式辊缝测量装置包括接触摆动机构和测量机构,测量机构包括上测量摆臂2、下测量摆臂4、弹簧、位移传感器和测量模块,弹簧和位移传感器位于上测量摆臂2和下测量摆臂4之间,接触摆动机构包括上接触块1和下接触块3,上接触块1设置在上测量摆臂2上,下接触块3设置在下测量摆臂4上,上测量摆臂2的回转中心距离引锭链本体5的上边缘的距离等于下测量摆臂4的回转中心距离引锭链本体5的下边缘的距离,并且所述距离的二倍小于引锭链本体5上、下边缘之间的距离;并且上测量摆臂2的回转中心与下测量摆臂4的回转中心沿引锭链5长度方向的距离大于零,上测量摆臂2和下测量摆臂4的回转半径相同。

测量模块设置在密封箱内,测量模块包括核心处理模块、数据采集模块、数据传输接口、数据存储单元、辊缝仪电量监控单元和状态面板单元,数据采集模块接收位移传感器测量到的相关数据,并将其传输给核心处理模块,核心处理模块的其它四个输入输出端分别连接数据传输接口、数据存储单元、辊缝仪电量监控单元和状态面板单元,数据传输接口用于与外界共享数据,数据存储单元用于存储数据,辊缝仪电量监控单元用于监控电量,状态面板单元用于将核心处理模块处理后的数据显示出来。

采用有效的防电磁和水喷淋的保护与密封装置,使得测量部分传出来的测量数据能够有效传送到核心处理模块中。

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