[发明专利]二氧化锰-氧化银复合氧化物纳米片及其采用石墨烯为模板制备的方法有效
| 申请号： | 201010291237.1 | 申请日： | 2010-09-21 |
| 公开（公告）号： | CN102010008A | 公开（公告）日： | 2011-04-13 |
| 发明（设计）人： | 陈胜;汪信;朱俊武;刘孝恒;杨绪杰;陆路德;韩巧凤 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学 |
| 主分类号： | C01G45/02 | 分类号： | C01G45/02;C01G5/00;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 唐代盛 |
| 地址： | 210094 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 二氧化锰 氧化银 复合 氧化物 纳米 及其 采用 石墨 模板 制备 方法 | ||
1.一种二氧化锰-氧化银复合氧化物纳米片，其特征在于由以下步骤制备而得：
步骤1：将天然石墨分散于N-甲基吡咯烷酮中，然后进行超声处理；
步骤2：将步骤1中超声处理后所得混合物进行离心，弃底部残留固体，取其上层的混合液，即石墨烯分散于N-甲基吡咯烷酮中形成的悬浮液；
步骤3：将AgNO3溶解于水中，形成AgNO3水溶液；
步骤4：将步骤3中AgNO3溶液加入步骤2的混合液中，搅拌反应得到Ag2O负载在石墨烯上的复合物；
步骤5：KMnO4溶解于水中；形成KMnO4水溶液；
步骤6：将步骤5中KMnO4溶液加入步骤4得到的复合物混合液中，搅拌反应，石墨烯与KMnO4生成MnO2，反应方程式为4KMnO4+3C+H2O→4MnO2+K2CO3+2KHCO3，从而Ag2O负载在二氧化锰片上；
步骤7：将步骤6反应后得到的混合液，离心、洗涤、干燥、研磨即得二氧化锰-氧化银复合氧化物纳米片材料。
2.一种采用石墨烯为模板制备二氧化锰-氧化银复合氧化物纳米片的方法，其特征在于包括以下步骤：
步骤1：将天然石墨分散于N-甲基吡咯烷酮中，然后进行超声处理；
步骤2：将步骤1中所得混合物进行离心，弃底部残留固体，取其上层的混合液，即石墨烯分散于N-甲基吡咯烷酮中形成的悬浮液；
步骤3：将AgNO3溶解于水中，形成AgNO3水溶液；
步骤4：将步骤3中AgNO3溶液加入步骤2混合液中，搅拌反应得到Ag2O负载在石墨烯上的复合物；
步骤5：KMnO4溶解于水中；形成KMnO4水溶液；
步骤6：将步骤5中KMnO4溶液加入步骤4得到的复合物混合液中，搅拌反应，石墨烯与KMnO4生成MnO2，反应方程式为4KMnO4+3C+H2O→4MnO2+K2CO3+2KHCO3，从而Ag2O负载在二氧化锰片上；
步骤七：将步骤6反应后得到的混合液，离心、洗涤、干燥、研磨即得二氧化锰-氧化银复合氧化物纳米片材料。
3.根据权利要求2所述的采用石墨烯为模板制备二氧化锰-氧化银复合氧化物纳米片的方法，其特征在于：步骤1中天然石墨在N-甲基吡咯烷酮中浓度为0.01～0.3mg/mL。
4.根据权利要求2所述的采用石墨烯为模板制备二氧化锰-氧化银复合氧化物纳米片的方法，其特征在于：步骤3中所形成的AgNO3水溶液浓度为0.8～80mg/mL。
5.根据权利要求2所述的采用石墨烯为模板制备二氧化锰-氧化银复合氧化物纳米片的方法，其特征在于：步骤3中AgNO3与天然石墨的质量比例为2～30。
6.根据权利要求2所述的采用石墨烯为模板制备二氧化锰-氧化银复合氧化物纳米片的方法，其特征在于：步骤4中反应温度为5～80℃，反应时间为10min～72h。
7.根据权利要求2所述的采用石墨烯为模板制备二氧化锰-氧化银复合氧化物纳米片的方法，其特征在于：步骤5中所形成的KMnO4水溶液浓度为10～100mg/mL。
8.根据权利要求2所述的采用石墨烯为模板制备二氧化锰-氧化银复合氧化物纳米片的方法，其特征在于：步骤5的KMnO4与天然石墨的质量比例为12.5～50。
9.根据权利要求2所述的采用石墨烯为模板制备二氧化锰-氧化银复合氧化物纳米片的方法，其特征在于：步骤6中反应温度为5～80℃，反应时间为1～72h。
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