[发明专利]一种小型自动化学发光免疫分析系统无效
申请号: | 201010285562.7 | 申请日: | 2010-09-17 |
公开(公告)号: | CN102004147A | 公开(公告)日: | 2011-04-06 |
发明(设计)人: | 饶微;张会生;尹力;汤俊辉;胡毅;陈小涛;朱亮;马炜弛;宋洪涛;彭小刚;陈德祥 | 申请(专利权)人: | 深圳市新产业生物医学工程有限公司 |
主分类号: | G01N33/53 | 分类号: | G01N33/53;G01N21/76 |
代理公司: | 深圳市智科友专利商标事务所 44241 | 代理人: | 曲家彬 |
地址: | 518057 广东省深圳市南*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 小型 自动 化学 发光 免疫 分析 系统 | ||
技术领域
本发明涉及一种小型自动化学发光免疫分析系统。
背景技术
目前,市场上对于化学发光免疫分析采用的有全自动的化学发光免疫分析系统和半自动化学发光免疫分析系统,全自动的化学发光免疫分析系统一般由反应杯进给系统、样品加样系统、试剂加样系统、样品存放区、试剂存放区、温育反应系统、磁分离清洗系统、化学发光测量系统以及计算机控制系统组成,反应杯进给系统一般由反应杯自动连续进给机构、反应杯储存机构、以及反应杯位置检测装置组成,样品加样系统和试剂加样系统则主要包括两个由步进电机驱动的加样臂、两个高精度计量泵以及对应的连接管路,两个加样臂均由计算机控制系统控制并能在立体三维方向自由运动,分别实现样品添加和试剂添加,计算机系统则包括有计算机主机、显示器、各个子系统的下位机以及控制电路等,当然,还包括对整个全自动化学发光免疫分析系统实现控制的软件系统。其特点是,整个化学发光免疫分析过程从反应杯进给、加样、加试剂、温育、清洗直到化学发光测量都能实现自动化处理,无需人工操作,具有处理量大、省时、快速高效、自动化程度高的优点,适用于样品处理量大的大型医院,但全自动的化学发光免疫分析系统的成本极为昂贵,对于日常分析量小的小型医院以及社康中心而言,高昂的设备成本使之无法得到实际应用。
现有的半自动化学发光免疫分析系统作为一种简化后的化学发光免疫分析仪器,省去了反应杯进给处理系统、温育反应系统、磁分离清洗系统等,只保留了化学发光测量系统和控制系统,相比之下,其控制系统和机械结构的设计相对简单,极大地降低了成本,但由于化学发光免疫分析的加样、加试剂、温育反应以及清洗步骤均通过手工操作完成,操作者需要对各个样品的加样时间,温育反应时间进行人工记录,并准确地控制样品、试剂添加顺序和温育反应时间,基于该过程的严格性和复杂性,在多个样品同时检测时,很容易出现操作失误,进而影响化学发光免疫分析结果的准确性,因而存在安全性不高的缺陷。
发明内容
本发明基于上述现有化学发光免疫分析仪器的缺点和不足,提出一种针对中小型医院而设计的小型自动化学发光免疫分析系统。
本发明实现发明目的采用的技术方案是,一种小型自动化学发光免疫分析系统,包括主机外壳、温育装置、样品存放架、试剂存放架、化学发光测量室和系统控制中心,其特征在于,所述小型自动化学发光免疫分析系统还包括一公用加样臂、一公用清洗站和一反应杯放置台,所述反应杯放置台设置在所述温育装置的入口,所述公用清洗站设置在所述样品存放架和试剂存放架之间,所述公用加样臂设置在一支架上,所述支架固定于所述主机外壳上支撑所述共用加样臂,所述共用加样臂由所述系统控制中心控制并可往返运动于所述样品存放架和试剂存放架之间。
更好地,所述公用清洗站包括有两个相互隔离的清洗容器。
本发明的有益效果是,结构设计合理,制造成本低,适用于中小型医院的化学发光免疫分析,能实现自动化地化学发光免疫分析,能有效地保证分析过程和结果的准确无误,减少人为误差。
附图说明
图1,本发明的小型自动化学发光免疫分析系统布局图。
图2,本发明支架部分的外形图。
图3,图1中公用清洗站的局部放大图。
图中,1主机外壳、2反应杯放置台、3公用加样臂、4公用清洗站、5样品存放架、6试剂存放架、7试剂存放架、8化学发光测量室、9支架。
具体实施方式
一种小型自动化学发光免疫分析系统,参看附图1,包括主机外壳1、反应杯放置台2、公用加样臂3、公用清洗站4、温育装置5、样品存放架6、试剂存放架7、化学发光测量室8和系统控制中心,反应杯放置台2设置在温育装置5的入口,公用清洗站4设置在样品存放架6和试剂存放架7之间,公用加样臂3设置在一支架9上,支架9固定于所述主机外壳1上支撑共用加样臂3,共用加样臂3由系统控制中心控制并可往返运动于样品存放架6和试剂存放架7之间,加样臂3通过加样针对样品存放架6和试剂存放架7实现样品和试剂的抽取。支架9的外形连接图参看附图2。
更好地,为便于对样品和试剂进行分别清洗,防止交叉污染,公用清洗站设置有两个相互隔离的清洗容器,参看附图3公用清洗站的俯视图。
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