[发明专利]液态高炉渣直接制作微晶玻璃的方法无效
| 申请号： | 201010274345.8 | 申请日： | 2010-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN101941802A | 公开（公告）日： | 2011-01-12 |
| 发明（设计）人： | 陈登福;毕艳艳;赵岩 | 申请（专利权）人： | 重庆大学 |
| 主分类号： | C03C10/04 | 分类号： | C03C10/04 |
| 代理公司： | 重庆博凯知识产权代理有限公司 50212 | 代理人： | 李海华 |
| 地址： | 400044 *** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 液态 炉渣 直接 制作 玻璃 方法 | ||
1.液态高炉渣直接制作微晶玻璃的方法，其特征在于，其制作步骤为：
1）分别将高炉产生的尚处于液态的高炉渣和熔融态的SiO2直接加入配料炉窑中混合均匀，液态高炉渣和SiO2的质量比为100∶10-30，加料前配料炉窑预热至高炉出渣温度；
2）将配好的混合料由配料炉窑转移至热处理炉窑，热处理炉窑预先预热至配料的晶化温度，混合料在该温度下保温60-180分钟；
3）对第2）步所得物退火至室温，即得微晶玻璃。
2.液态高炉渣直接制作微晶玻璃的方法，其特征在于，其制作步骤为：
1）分别将高炉产生的尚处于液态的高炉渣和熔融态的SiO2直接加入配料炉窑中混合均匀，液态高炉渣和SiO2的质量比为100∶10-30，加料前配料炉窑预热至高炉出渣温度；
2）将配好的混合料由配料炉窑转移至热处理炉窑，热处理炉窑预先预热至配料的核化温度，混合料在该温度下保温30-60分钟，然后将热处理炉窑由核化温度升至配料的晶化温度，升温速度为3-5℃/min，在晶化温度下保温60-90分钟；
3）对第2）步所得物退火至室温，即得微晶玻璃。
3.根据权利要求1或2所述的液态高炉渣直接制作微晶玻璃的方法，其特征在于：所述第3）步的退火是在热处理炉窑中进行的，第2）步所得物随热处理炉窑自然冷却至室温即可。
4.根据权利要求1或2所述的液态高炉渣直接制作微晶玻璃的方法，其特征在于：所述第3）步的退火是在退火炉窑中进行的，先将退火炉窑预热至600-650℃，再将第2）步所得物转移至退火炉窑，然后马上停止对退火炉窑供热，最后使所得物随退火炉窑自然冷却至室温即可。
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