[发明专利]荧光量或吸光量的测定方法及测定装置无效
申请号: | 201010250354.3 | 申请日: | 2010-08-06 |
公开(公告)号: | CN101995291A | 公开(公告)日: | 2011-03-30 |
发明(设计)人: | 田名网健雄;青木秀年;杉山由美子;下田聪一郎;兰宗树 | 申请(专利权)人: | 横河电机株式会社 |
主分类号: | G01J1/00 | 分类号: | G01J1/00;G01N21/64 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 何立波;张天舒 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 荧光 吸光量 测定 方法 装置 | ||
1.一种荧光量测定方法,其向试样照射激励光,经由受光光学系统,利用受光元件测定从该试样产生的荧光,
其特征在于,具有下述步骤:
向所述试样照射激励光的步骤,该激励光具有可溯源至国家标准且在试样表面的每单位面积上为预先指定的光量值;
经由所述受光光学系统,利用所述受光元件测定从所述试样产生的荧光的步骤;以及
基于所述每单位面积上的指定激励光量、所述受光光学系统的光学系数以及所述受光元件的受光系数,对由所述受光元件测定的荧光量进行运算,从而作为可溯源至国家标准的每单位面积上的光量值而进行计算的步骤。
2.一种吸收光量测定方法,其向试样照射照射光,经由受光光学系统,利用受光元件测定由该试样吸收后的透过光,
其特征在于,具有下述步骤:
经由所述受光光学系统,利用所述受光元件测定照射光的步骤,该照射光具有可溯源至国家标准且在试样表面的每单位面积上为预先指定的光量值;
将所述照射光向所述试样照射的步骤;
经由所述受光光学系统,利用所述受光元件测定由所述试样吸收后的透过光的步骤;以及
基于所述每单位面积上的指定照射光量、所述受光光学系统的光学系数以及所述受光元件的受光系数,对由所述受光元件测定的透过光量进行运算,从而作为可溯源至国家标准的每单位面积上的吸光量值而进行计算的步骤。
3.一种荧光量测定装置,其向试样照射激励光,经由受光光学系统,利用受光元件测定从该试样产生的荧光,
其特征在于,具有:
光源单元,其向所述试样照射激励光,该激励光具有可溯源至国家标准且在试样表面的每单位面积上为预先指定的光量值;
光量测量单元,其经由所述受光光学系统,利用所述受光元件测定从所述试样产生的荧光;以及
荧光量计算单元,其基于所述每单位面积上的指定激励光量、所述受光光学系统的光学系数以及所述受光元件的受光系数,对由所述受光元件测定的荧光量进行运算,从而作为可溯源至国家标准的每单位面积上的光量值而进行计算。
4.一种吸收光量测定装置,其向试样照射照射光,经由受光光学系统,利用受光元件测定由该试样吸收后的透过光,
其特征在于,具有:
光源单元,其向所述试样照射照射光,该照射光具有可溯源至国家标准且在试样表面的每单位面积上为预先指定的光量值;
光量测量单元,其经由所述受光光学系统,利用所述受光元件测定从所述光源单元射出的照射光以及由所述试样吸收后的透过光;以及
吸光量计算单元,其基于所述每单位面积上的指定照射光量、所述受光光学系统的光学系数以及所述受光元件的受光系数,对由所述受光元件测定的透过光量进行运算,从而作为可溯源至国家标准的每单位面积上的吸光量值而进行计算。
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