[发明专利]新型树脂以及包括该新型树脂的光致抗蚀剂组合物

权利要求书

1.一种包含树脂的光致抗蚀剂组合物，其中所述树脂包含多元环、多环酯单元。

2.一种包含树脂的光致抗蚀剂组合物，其中所述树脂包含多环酯单元，其中所述酯单元的至少一个环为芳香族环。

3.权利要求1或2所述的光致抗蚀剂组合物，其中酯的β-碳为芳香族或季碳原子。

4.权利要求1-3任一项所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述树脂包含含一种或多种包括下述结构式所示基团的单元：

其中M为芳香族或多环碳或杂脂环结构，以及n为1至5的整数。

5.权利要求1-3任一项所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述树脂包含一种或多种包括下述结构式所示基团的单元：

其中R和R’各自独立的为氢或任选取代的C_1-6烷基，每个R²相同或不同，而且为非氢取代基，以及p为0至8的整数，n为1至5的整数。

6.一种包括成膜化合物的光致抗蚀剂组合物，其中所述化合物包含具有被保护的碱溶性基团的结构单元，所述结构单元中被保护的碱溶性基团的保护性部分在光致酸产生剂所产生的酸的作用下可被裂解，

并且所述保护性部分包含下述结构式Ⅴ或Ⅵ所示的基团：

其中在结构式Ⅴ和Ⅵ中，R₁为具有7至30个碳原子的直链、支链、单环或多环一价烃基团，其含有直接连接到C1的季碳原子，以及也可含有一个或多个杂原子，n为0至7的整数，m为0至2的整数，A代表含有一个或多个碳、氢、氧、氮、氟和硫原子的二价连接键。

7.权利要求6所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述碱溶性基团选自由羧酸基团、磺酸基团、酰胺基团、酰亚胺基团、酚基团、硫醇基团、氮杂内酯基团以及羟肟类基团所组成的组。

8.权利要求1-7任一项所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述树脂为二元共聚物、三元共聚物、四元共聚物或五元共聚物。

9.权利要求1-8任一项所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述光致抗蚀剂包括一种或多种光致酸产生剂化合物，且酯基团是光酸敏感的。

10.权利要求1-9任一项所述的光致抗蚀剂组合物，其中所述光致抗蚀剂树脂包括不同于所述光酸敏感性酯的第二种光酸敏感基团。

11.一种提供光致抗蚀剂浮雕图像的方法，包含：

a)将权利要求1-10任一项所述的光致抗蚀剂组合物的涂层施加到衬底上，以及

b)将所述光致抗蚀剂组合物层曝光于活性射线下，以及显影该曝光的光致抗蚀剂组合物涂层。

12.一种包括(i)多元环、多环酯单元和/或多环酯单元的树脂，其中所述 酯单元的至少一个环为芳香族环。

13.权利要求12所述的树脂，其中酯的β-碳为芳香族或季碳原子。

14.一种包含下述结构式所示结构的化合物：

其中M为芳香族或多环碳或杂脂环结构，以及n为1至5、6、7或8的整数，并且所述化合物任选可以是可聚合的。

15.一种包括权利要求12-14任一项所述树脂或化合物的可成像组合物。