[发明专利]一种透镜光栅的制造方法及设备

权利要求书

1.一种透镜光栅的制造方法，其特征在于，所述透镜光栅的制造方法包括：

在基板上涂布可辐射固化材料层；

在所述可辐射固化材料层上投射出具有灰阶变化的辐射图案；

控制所述辐射图案的投射时间，以在所述可辐射固化材料层中形成具有高度变化的固化透镜光栅结构。

2.根据权利要求1所述的透镜光栅的制造方法，其特征在于，所述辐射图案的灰阶值是连续变化的，以使所述固化透镜光栅结构的高度是连续变化的。

3.根据权利要求2所述的透镜光栅的制造方法，其特征在于，利用辐射源及灰阶掩模板在所述可辐射固化材料层上投射出所述辐射图案。

4.根据权利要求2所述的透镜光栅的制造方法，其特征在于，所述透镜光栅的制造方法进一步包括：清理所述可辐射固化材料层的未固化部分。

5.根据权利要求4所述的透镜光栅的制造方法，其特征在于，所述透镜光栅的制造方法进一步包括：进一步固化清理后的所述固化透镜光栅结构。

6.根据权利要求5所述的透镜光栅的制造方法，其特征在于，所述透镜光栅的制造方法进一步包括：对进一步固化后的所述固化透镜光栅结构进行烘烤。

7.根据权利要求3所述的透镜光栅的制造方法，其特征在于，所述可辐射固化材料层为UV固化胶层，所述清理液为无水甲醇。

8.一种透镜光栅的制造方法，其特征在于，所述透镜光栅的制造方法包括：

在可辐射固化材料层上投射出能量密度变化的辐射图案；

控制所述辐射图案的投射时间，以在所述可辐射固化材料层中形成固化透镜光栅结构。

9.一种透镜光栅的制造方法，其特征在于，所述透镜光栅的制造方法包括：

利用辐射源在可辐射固化材料层上投射出辐射图案；

控制所述辐射源，以使得所述辐射图案的曝光深度连续变化。

10.一种透镜光栅的制造设备，其特征在于，所述透镜光栅的制造设备包括：

曝光平台，用于支撑涂布有可辐射固化材料层的基板；

辐射源，用于发射预定波长的辐射；

灰阶掩模板，设置于所述曝光平台与所述辐射源之间，以使所述辐射源在所述可辐射固化材料层上投射出具有灰阶变化的辐射图案，进而在所述可辐射固化材料层中形成固化透镜光栅结构。

11.根据权利要求10所述的透镜光栅的制造设备，其特征在于，所述曝光平台进一步设置传动机构，以相对所述辐射源调整所述基板的位置。

12.根据权利要求10所述的透镜光栅的制造设备，其特征在于，所述辐射源为UV灯。

13.根据权利要求10所述的透镜光栅的制造设备，其特征在于，所述灰阶掩模板为具有灰阶变化的光学掩模板。

14.根据权利要求13所述的透镜光栅的制造设备，其特征在于，所述灰阶掩模板呈周期性排列，每一周期具有一定长度，所述长度根据所要制作的透镜光栅进行设置。

15.根据权利要求13所述的透镜光栅的制造设备，其特征在于，所述灰阶掩模板的每一周期上的灰阶值连续变化，并且灰阶值从正中心至边缘逐渐变小。