[发明专利]液晶显示基板的制造方法及检测修补设备有效

专利信息
申请号: 201010188307.0 申请日: 2010-05-21
公开(公告)号: CN102253506B 公开(公告)日: 2019-05-14
发明(设计)人: 徐纪罡;徐超;肖立友 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 液晶显示 制造 方法 检测 修补 设备
【说明书】:

发明公开了一种液晶显示基板的制造方法及检测修补设备。该方法包括至少一次形成膜层的步骤,其中,在形成膜层之后,还包括:对膜层进行检测,以定位膜层中存在的缺失区域;在缺失区域中填补膜层的材料,以修补膜层。本发明提供的液晶显示基板的制造方法和液晶显示基板的检测修补设备能够及时对膜层的缺失区域进行检测和修补,避免局部膜层缺陷遗漏到后续操作中无法弥补而导致整个基板废弃或产生更高的维修成本,从而从液晶显示基板的整体制造流程方面降低生产成本,提高产品合格率。

技术领域

本发明实施例涉及液晶显示基板在制造过程中的检测和修补技术,尤其涉及一种液晶显示基板的制造方法及检测修补设备。

背景技术

液晶面板是液晶显示器中的重要部件,其主要由两块液晶显示基板对盒而成。以薄膜晶体管液晶显示器(Thin Film Transistor Liquid CrystalDisplay,简称TFT-LCD)为例,其液晶面板由阵列基板和彩膜基板对盒而成。

液晶显示基板上需要形成各种膜层图案,所以,在液晶显示基板的制造过程中,构图工艺是必不可少的工艺。常规的构图工艺包括形成薄膜、涂覆光刻胶、对光刻胶进行曝光显影、对待刻蚀膜层进行刻蚀、以及去除剩余光刻胶的操作。这其中涉及到两次图案成形的步骤,第一次是光刻胶曝光显影之后形成的光刻胶图案,第二次是对待刻蚀膜层进行刻蚀后形成的具有设定图案的膜层。构图工艺在整个液晶显示基板的制造过程中会执行多次,每次构图工艺中所成形图案的准确性,都会影响液晶显示基板的质量。光刻胶图案的准确性则会直接影响膜层的图案,例如导致刻蚀出的数据线和栅线发生断线不良。

为了保证成形图案的准确性,现有技术在图案成形后会进行检测,检测到不良时则会去除该层图案,重新构图。因此,现有技术存在着工序复杂、时间和材料成本浪费的缺陷。

发明内容

本发明提供一种液晶显示基板的制造方法及检测修补设备,以解决局部膜层缺陷导致液晶显示基板产品不良的问题。

本发明实施例提供一种液晶显示基板的制造方法,包括至少一次形成膜层的步骤,其中,在形成所述膜层之后,还包括:

对所述膜层进行检测,以定位所述膜层中存在的缺失区域;

在所述缺失区域中填补所述膜层的材料,以修补所述膜层。

本发明实施例还提供了一种液晶显示基板的检测修补设备,包括:

基板承载台,用于承载液晶显示基板;

坐标定位装置,设置在所述基板承载台和检测装置之间;

检测装置,设置在所述坐标定位装置上,所述检测装置包括驱动单元和检测单元,其中:

所述驱动单元用于驱动所述坐标定位装置动作,以带动所述检测装置相对于所述基板承载台运动;

所述检测单元用于对形成的膜层进行检测,以定位所述膜层中存在的缺失区域;

修补装置,设置在所述坐标定位装置上,用于在所述缺失区域中填补所述膜层的材料,以修补所述膜层。

本发明实施例提供的液晶显示基板的制造方法和液晶显示基板的检测修补设备能够及时对膜层的缺失区域进行检测和修补,避免局部膜层缺陷遗漏到后续操作中无法弥补而导致整个基板废弃或产生更高的维修成本,从而从液晶显示基板的整体制造流程方面降低生产成本,提高产品合格率。

附图说明

图1为本发明实施例一提供的液晶显示基板的制造方法中检测修补工序的流程图;

图2A为本发明实施例二提供的液晶显示基板的制造方法的流程图;

图2B~2D为液晶显示基板的制造过程中形成断路缺陷的结构示意图;

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