[发明专利]高精度氧化铝抛光液及其制备方法无效
| 申请号： | 201010170416.X | 申请日： | 2010-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN101831244A | 公开（公告）日： | 2010-09-15 |
| 发明（设计）人： | 高璐;蒙素玲;赵月昌;李速娟;张鹏;杨筱琼;顾捐永;李冉 | 申请（专利权）人： | 上海高纳粉体技术有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 上海金盛协力知识产权代理有限公司 31242 | 代理人： | 罗大忱 |
| 地址： | 200231 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 高精度 氧化铝 抛光 及其 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.高精度氧化铝抛光液，其特征在于，为一种水性浆液，含有如下重量份的组分：
酸性pH调节剂 10-25份
分散剂 0.1-0.8份
高精度氧化铝粉 74-90份
重量固含量为0.5-20％。
2.根据权利要求1所述的氧化铝抛光液，其特征在于，所述酸性pH调节剂选自硝酸、盐酸、醋酸或可溶性铝盐。
3.根据权利要求2所述的氧化铝抛光液，其特征在于，所述的可溶性铝盐选自硝酸铝、氯化铝或硫酸铝中的一种或几种。
4.根据权利要求1所述的氧化铝抛光液，其特征在于，所述分散剂选自聚乙二醇20000、聚丙烯酸钠、六偏磷酸钠、十六烷基三甲基溴化胺或十二烷基硫酸钠中的一种或几种。
5.根据权利要求1～4任一项所述的氧化铝抛光液，其特征在于，所述的高精度氧化铝粉，中位粒径D50为0.2～2.0μm，且满足：D10≥0.5D50；D90≤2D50；D100≤3D50。
6.权利要求1～5任一项所述的氧化铝抛光液的制备方法，包括如下步骤：将高精度氧化铝抛光粉、酸性pH调节剂、分散剂和水混合，分散，即可得产品。
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