[发明专利]支撑装置及组装薄膜物理钛腔的线圈与护罩的方法

说明书

技术领域

本发明涉及薄膜物理钛腔的零部件的组装方法，尤其涉及薄膜物理钛腔的线圈与护罩的组装方法以及在该组装方法中用的支撑装置。 

背景技术

目前，薄膜物理钛腔(IMP Chamber)是用来在硅片上沉积薄膜的场所，该腔内包括线圈和护罩，线圈为钛材质，与护罩连接并由一进线和出线与电源箱连接。使用时，在薄膜物理钛腔内通入工业气体并由电源箱给线圈供电，在线圈产生的电场的作用下，工业气体被电离成离子体而轰击线圈，线圈的原子会失去电子而脱落，从而，溅射到硅片表面，同时，也会脱落在护罩表面，由于护罩具有表面粗糙度，从而，将薄膜物理钛腔内的颗粒吸附，增加薄膜物理钛腔内的清洁度。当使用一段时间后，护罩表面的吸附能力下降，需要下机清洗而增强护罩的吸附能力，护罩清洗后，将线圈组装于护罩，然后将护罩固定于薄膜物理钛腔内。 

目前，薄膜物理钛腔的线圈和护罩组装方式为：先让一操作者将线圈放在护罩内并用手托住，另外一操作者用螺丝穿过护罩的护罩组装部(例如：螺孔)和线圈的线圈组装部(例如：螺孔)将护罩和线圈锁紧固定。 

采用上述组装方式，会存在如下问题： 

1、需要两个人配合组装，浪费人力，而且工作效率低； 

2、一个操作者托住线圈，另外一操作者在用螺丝锁紧护罩和线圈时，由于线圈与护罩之间的距离很近，因此，两操作者配合组装会使得线圈与护罩之间会产生摩擦，这样，将导致护罩上产生颗粒，从而，使得护罩的使用寿 命变短，下机清洗次数增多。 

发明内容

本发明解决的是现有技术在组装薄膜物理钛腔的线圈和护罩时，线圈与护罩之间的摩擦而产生很多颗粒的问题。 

为解决上述技术问题，本发明的技术方案是： 

一种支撑装置包括支撑台，该支撑台设置有在组装薄膜物理钛腔的线圈与护罩时用以定位所述线圈的凹槽。 

所述支撑装置还包括支腿，支腿的一端与所述支撑台连接。 

所述支撑装置还包括底座，与所述支腿的另外一端连接，该底座与所述支撑台平行。 

所述支撑台为板状结构，包括基板以及连接在基板四周的翻板，所述翻板与基板折叠式连接。 

所述支撑台为圆台或棱台，其顶面设置有所述凹槽。 

所述凹槽的内圈直径比线圈直径小4毫米，凹槽的外圈直径比线圈直径大4毫米。 

一种组装薄膜物理钛腔的线圈与护罩的方法，所述线圈的第一位置、第三位置和第五位置分别设置有线圈组装部，所述第一位置为电源的进线位置，所述第五位置为电源的出线位置，所述第三位置位于所述第一位置和第五位置之间；所述护罩上设置有护罩组装部，分别对应于所述线圈组装部，所述方法包括如下步骤：将所述支撑装置放置于所述护罩内；将所述线圈定位于所述支撑装置的凹槽，并使所述线圈的线圈组装部与护罩的护罩组装部位于同一高度；在所述第一位置、第三位置和第五位置分别连接所述线圈组装部与护罩组装部。 

还包括在所述第一位置、第三位置和第五位置分别连接所述线圈组装部与护罩组装部后，将所述支撑装置从所述护罩内取出。 

在所述第一位置、第三位置和第五位置分别连接所述线圈组装部与护罩组装部包括：首先在第三位置连接所述线圈组装部和护罩组装部，最后在第一位置和第五位置分别连接线圈组装部与护罩组装部。 

所述线圈的第二位置和第四位置还分别设置有线圈组装部，所述第二位置位于第一位置和第三位置之间，所述第四位置位于第三位置和第五位置之间，所述方法还包括分别在第二位置和第四位置连接所述线圈组装部和护罩组装部。 

与现有技术相比，上述技术方案的有益效果是： 

1、由于提供了支撑装置，这样，在组装线圈与护罩的时候，支撑装置用以定位线圈而减小线圈与护罩的摩擦，从而，护罩上产生的颗粒少。 

2、由于在组装时，先在第三位置连接所述线圈与护罩；最后在第一位置和第五位置连接所述线圈和护罩，这样，在紧接着的后续步骤组装线圈和护罩时，线圈其他的部位相对于护罩有较大的调整空间，线圈与护罩之间的摩擦减小，护罩与陶瓷件之间摩擦也会减小，从而，在组装过程中，护罩上产生的颗粒少。