[发明专利]防眩处理方法、防眩薄膜的制造方法及模具的制造方法有效
申请号: | 201010149458.5 | 申请日: | 2010-03-25 |
公开(公告)号: | CN101846758A | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
发明(设计)人: | 古谷勉;藤井贵志;宫本浩史;神野亨 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | G02B5/02 | 分类号: | G02B5/02;G02B1/11;G02B1/12;G03F7/00 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 朱丹 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 处理 方法 薄膜 制造 模具 | ||
1.一种透明基材的防眩处理方法,其中,包括:
对于无规地配置有多个点或配置有亮度分布的第一图案,适用从第一图案中包含的空间频率成分至少除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分的滤波器,制作第二图案的工序;以及
基于所述第二图案,在透明基材上加工凹凸形状的工序。
2.根据权利要求1所述的防眩处理方法,其中,
所述滤波器是从所述第一图案中包含的空间频率成分仅除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分的高通滤波器。
3.根据权利要求2所述的防眩处理方法,其中,
所述滤波器是从所述第一图案中包含的空间频率成分仅除去或减少空间频率小于0.01μm-1的低空间频率成分的高通滤波器。
4.根据权利要求1所述的防眩处理方法,其中,
所述滤波器是从所述第一图案中包含的空间频率成分除去或减少空间频率小于特定值的低空间频率成分,并且,除去或减少空间频率超过特定值的高空间频率成分,由此提取特定范围的空间频率成分的带通滤波器。
5.根据权利要求4所述的防眩处理方法,其中,
通过适用所述带通滤波器来提取的所述特定范围的空间频率成分中的空间频率的下限值B为0.01μm-1以上,上限值T为1/(D×2)μm-1以下,其中,D(μm)是在所述透明基材上加工凹凸形状时使用的加工装置的分辨率。
6.根据权利要求5所述的防眩处理方法,其中,
所述空间频率的上限值T及下限值B满足下述式(1):
0.20<2×(T-B)/(T+B)<0.80 (1)。
7.根据权利要求1所述的防眩处理方法,其中,
还包括:通过对所述第二图案适用抖动法,制作变换为离散化的信息的第三图案的工序,
其中,进行基于所述第三图案而在所述透明基材上加工凹凸形状的工序。
8.根据权利要求7所述的防眩处理方法,其中,
所述抖动法是误差扩散法。
9.根据权利要求8所述的防眩处理方法,其中,
通过适用使变换误差在3像素以上且6像素以下的范围中扩散的误差扩散法,制作第三图案。
10.根据权利要求7所述的防眩处理方法,其中,
所述第三图案是变换为离散化成两个等级的信息的图案。
11.根据权利要求10所述的防眩处理方法,其中,
还包括:对于变换为离散化成两个等级的信息的第三图案,利用蒙特-卡罗法,使孤立的黑或白像素移动,制作第四图案的工序,
其中,进行基于所述第四图案而在所述透明基材上加工凹凸形状的工序。
12.根据权利要求1所述的防眩处理方法,其中,
在所述透明基材上加工凹凸形状的工序包括:基于所述第二图案,制作具有凹凸面的模具,并将所述模具的凹凸面转印于所述透明基材上的工序。
13.根据权利要求7所述的防眩处理方法,其中,
在所述透明基材上加工凹凸形状的工序包括:基于所述第三图案,制作具有凹凸面的模具,并将所述模具的凹凸面转印于所述透明基材上的工序。
14.根据权利要求11所述的防眩处理方法,其中,
在所述透明基材上加工凹凸形状的工序包括:基于所述第四图案,制作具有凹凸面的模具,并将所述模具的凹凸面转印于所述透明基材上的工序。
15.根据权利要求7所述的防眩处理方法,其中,
在所述透明基材上加工凹凸形状的工序是使用基于所述第三图案所具有的离散化的信息进行加工的加工装置来进行的。
16.根据权利要求11所述的防眩处理方法,其中,
在所述透明基材上加工凹凸形状的工序是使用基于所述第四图案所具有的离散化的信息进行加工的加工装置来进行的。
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