[发明专利]硅锭的抛光方法、系统及抛光板

权利要求书

1.一种硅锭的抛光方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供硅锭；

移动传动杆以使抛光板与所述硅锭的上表面接触，并通过所述传动杆施加预设的压力，其中，所述抛光板具有至少一个用于抛光液导入的导入孔和与所述导入孔相连的至少一个导流槽；

将抛光液导入到所述抛光板的导入孔中，所述抛光液通过所述导入孔和导流槽流入所述抛光板的抛光布与硅锭的抛光界面；和

水平移动所述硅锭并旋转所述传动杆以对所述硅锭的上表面进行抛光。

2.如权利要求1所述的硅锭的抛光方法，其特征在于，还包括：

对抛光液进行收集回收，处理后循环导入到所述抛光板的导入孔中。

3.如权利要求1或2所述的硅锭的抛光方法，其特征在于，所述抛光液包括二氧化硅颗粒和碱性水溶液。

4.如权利要求1-3任一项所述的硅锭的抛光方法，其特征在于，所述抛光布由尼龙材料构成。

5.一种硅锭的抛光系统，其特征在于，包括：

承载装置，用于承载硅锭，并可水平移动；

用于对所述硅锭进行抛光的抛光板，其中，所述抛光板具有至少一个用于抛光液导入的导入孔和与所述导入孔相连的至少一个导流槽；

旋转伸缩装置，用于移动与所述抛光板相连接的传动杆以使所述抛光板与所述硅锭的上表面接触，并通过所述传动杆对所述抛光板施加预设的压力，以及在抛光所述硅锭时旋转所述传动杆以使所述抛光板旋转；和

供液装置，用于将抛光液导入到所述抛光板的导入孔中，所述抛光液通过所述导入孔和所述导流槽流入所述抛光板的抛光布与硅锭的抛光界面。

6.如权利要求5所述的硅锭的抛光系统，其特征在于，还包括：

回收循环装置，用于对抛光液进行收集回收，并将处理后的抛光液提供到所述供液装置中。

7.如权利要求5所述的硅锭的抛光系统，其特征在于，所述抛光液包括二氧化硅颗粒和碱性水溶液。

8.如权利要求7所述的硅锭的抛光系统，其特征在于，所述抛光板包括支撑板和与固定在所述支撑板之上的抛光布，其中，所述支撑板上具有至少一个第一导入孔，所述抛光布具有与所述支撑板的第一导入孔对应的第二导入孔，和与所述第二导入孔相连通的至少一个第一导流槽。

9.如权利要求8所述的硅锭的抛光系统，其特征在于，所述第一导入孔和第二导入孔均位于所述抛光布的中心，所述第一导流槽以所述第二导入孔为中心向所述抛光布的四周发散。

10.如权利要求9所述的硅锭的抛光系统，其特征在于，所述抛光布还包括至少一个沿着周向延伸的第二导流槽，以连通所述第一导流槽的至少一部分。

11.如权利要求5-10任一项所述的硅锭的抛光系统，其特征在于，所述抛光布由尼龙材料构成。

12.一种抛光板，其特征在于，包括：

支撑板，所述支撑板上具有至少一个第一导入孔，传动杆与所述支撑板的中心点相连；和

抛光布，所述抛光布与所述支撑板相连接，用于对硅锭进行抛光，其中，所述抛光布具有：

第二导入孔，所述第二导入孔与所述支撑板的第一导入孔对应；以及

至少一个第一导流槽，所述至少一个第一导流槽与所述第二导入孔相连通。

13.如权利要求12所述的抛光板，其特征在于，所述第二导入孔位于所述抛光布的中心，所述第一导流槽以所述第二导入孔为中心向所述抛光布的四周发散。

14.如权利要求13所述的抛光板，其特征在于，所述抛光布还包括至少一个沿着周向延伸的第二导流槽，以连接所述第一导流槽的至少一部分。

15.如权利要求12-14任一项所述的抛光板，其特征在于，所述抛光布由尼龙材料构成。