[发明专利]光刻装置和器件制造方法

说明书

本申请为于2005年11月7日递交的申请号为200510120144.1、发明名 称为“光刻装置和器件制造方法”的中国发明专利申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及一种光刻装置和器件制造方法。

背景技术

光刻装置是一种将所需图案应用于基底的目标部分上的装置。光刻装置 可以用于例如集成电路(IC)的制造，平板显示器以及包括精细结构的其它 器件。在常规的光刻装置中，构图部件，可替换地称作掩模或分划板，可用 于产生对应于IC(或其它器件)一个单独层的电路图案，该图案可以成像在 具有辐射敏感材料(抗蚀剂)层的基底(例如硅晶片或玻璃板)的目标部分 (例如包括部分，一个或者多个管芯)上。代替掩模，该构图部件可以包括 产生电路图案的单独可控元件的阵列。

一般地，单一的基底将包含依次曝光的相邻目标部分的网格。已公知的 光刻装置包括步进器，其中通过将全部图案一次曝光在目标部分上而辐射每 一目标部分，还包括扫描器，其中通过投射光束沿给定方向(“扫描”方向) 扫描图案、并同时沿与该方向平行或者反平行的方向同步扫描基底来辐射每 一目标部分。

一些光刻系统包括具有一个或多个光学元件列(例如光路)的扫描器。 常规的扫描器在单次扫描过程中不能使大面积基底曝光。其原因之一是难于 产生能够使较大目标部分曝光的单个光学元件列。例如，所希望的是能够在 尺寸大小为2米的面板上沿面板各边缘制造出平板显示器(FPD′s)，但是产 生能够使延伸穿过大致这种图案的整个宽度的目标部分曝光的单一光学元 件列是非常困难的。

解决这一问题的一种方法是利用一系列被布置成使得每一光学元件列 扫描基底上的相应轨迹的分开的光学元件列使整个长度的面板曝光。在这种 情况下，相邻的轨迹相邻接，从而使整个长度的面板曝光。不幸的是，难以 将分开的光学元件列相互间保持处于适当的位置，从而避免在相邻轨迹之间 产生小的间隙或避免相邻轨迹之间产生小的重叠。这种错位能够影响到所生 产的器件的功能，并且在生产FPD的情 况下，能够在显示器单上出现清晰可见的线条。

因此，需要能够被用以在单次扫描过程中扫描大面积基底的光刻 系统和及其使用方法。

发明内容

根据本发明的一个实施例，提供一种包括照射系统、构图系统、 投影系统、和位移系统的光刻装置。所述照射系统提供辐射投射光束。 所述构图系统对光束进行构图。所述投影系统将带图案的光束投射到 基底的目标部分上。所述位移系统引起基底和投影系统之间的相对位 移，以使得光束沿预定方向在基底上进行扫描。每一个投影系统包括 一个透镜阵列，排列使得所述阵列中的每一个透镜朝向基底引导相应 光束的相应部分。每一个构图系统包括一个受控以向相应光束传递所 需图案的单独可控元件的阵列。设置所述投影系统，使得每一条投射 光束在基底上沿一系列轨迹中的相应一条轨迹进行扫描。所述轨迹重 叠，使得每一条轨迹包括一个仅被一条投射光束扫描的第一部分和至 少一个与相邻轨迹重叠的且被两条投射光束扫描的第二部分。朝向轨 迹的第一部分引导的每一条投射光束的第一部分的最大强度大于朝向 轨迹的第二部分引导的投射光束的第二部分的最大强度，使得轨迹的 第一部分和第二部分曝光于具有大体上相同的最大强度的辐射中。

与非重叠区相比，通过在相邻的扫描轨迹之间提供重叠部分并且 调节投射到所述重叠区上的辐射强度，能够避免使单一轨道边缘区域 的曝光强度产生大的阶跃变化。由此，由不同光学引擎扫描的轨迹可 以使相邻轨迹的相对位置之间的错位的不利影响最小化的方式接合在 一起。