[发明专利]光学物品及其制造方法无效
| 申请号: | 201010129480.3 | 申请日: | 2010-03-04 |
| 公开(公告)号: | CN101825728A | 公开(公告)日: | 2010-09-08 |
| 发明(设计)人: | 西本圭司;野口崇;关浩幸 | 申请(专利权)人: | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 丁香兰;庞东成 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 物品 及其 制造 方法 | ||
1.一种光学物品的制造方法,所述光学物品具有直接或隔着其他层在光学基材上形成的滤光层,所述滤光层使规定波段的光透过而将波长长于和/或短于所述规定波段的光屏蔽,
其中,所述光学物品的制造方法具有下述步骤:
形成所述滤光层所含有的第1层;和
通过在所述第1层的表面添加碳、硅和锗的至少任意之一来实施低电阻化。
2.如权利要求1所述的光学物品的制造方法,其中,所述第1层含有能与碳、硅和锗的至少任意之一形成化合物的过渡金属。
3.如权利要求1或2所述的光学物品的制造方法,其中,所述实施低电阻化的步骤中进一步包括将用于与碳、硅和锗的至少任意之一形成化合物的过渡金属添加于所述第1层的表面的步骤。
4.如权利要求1~3任一项所述的光学物品的制造方法,其中,所述滤光层是含有所述第1层的多层膜,所述光学物品的制造方法进一步包括在所述第1层上叠置形成所述多层膜的其他层的步骤。
5.一种光学物品,其具有光学基材和滤光层,所述滤光层直接或隔着其他层形成在所述光学基材上,并且该滤光层使规定波段的光透过而将波长长于和/或短于所述规定波段的光屏蔽,
所述滤光层具备含有通过添加碳、硅和锗的至少任意之一而被低电阻化的表层域的第1层。
6.如权利要求5所述的光学物品,其中,所述第1层含有能与碳、硅和锗的至少任意之一形成化合物的过渡金属。
7.如权利要求5或6所述的光学物品,其中,所述表层域含有碳、硅和锗的至少任意之一与过渡金属的化合物。
8.如权利要求5~7任一项所述的光学物品,其中,所述滤光层使可见光透过而将紫外光和/或红外光屏蔽。
9.如权利要求5~8任一项所述的光学物品,其中,所述滤光层是多层膜,所述第1层是构成所述多层膜的一个层。
10.如权利要求9所述的光学物品,其中,所述第1层是含有能与碳、硅和锗的至少任意之一形成化合物的过渡金属的氧化物层。
11.如权利要求5~10任一项所述的光学物品,其中,所述光学基材是玻璃板或水晶板。
12.一种系统,其具有如权利要求5~11任一项所述的光学物品、和用于通过所述光学物品获取图像的摄像装置。
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