[发明专利]一种后盖和后盖的制造方法无效

专利信息
申请号: 201010116660.8 申请日: 2010-02-26
公开(公告)号: CN101866583A 公开(公告)日: 2010-10-20
发明(设计)人: 曹绪文;杨学宇;何基强 申请(专利权)人: 信利半导体有限公司
主分类号: G09F9/33 分类号: G09F9/33
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 逯长明;王宝筠
地址: 516600 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种后盖,其特征在于,所述后盖面向基板的一面形成有与基板上的像素显示区矩阵对应的发光区,所述后盖在所述发光区外围还包括包围所述发光区的至少一圈连续的凸起。

2.如权利要求1所述的后盖,其特征在于,所述后盖在所述发光区和所述凸起之间还形成有凹槽。

3.如权利要求2所述的后盖,其特征在于,所述凹槽呈连续或离散分布。

4.如权利要求2所述的后盖,其特征在于,所述凹槽的深度不大于后盖玻璃厚度的一半。

5.如权利要求4所述的后盖,其特征在于,所述凹槽的深度为0.1~0.4mm,宽度为0.1~10mm。

6.如权利要求1-5任一项所述的后盖,其特征在于,所述凸起的高度为5~100μm,宽度为5~200μm。

7.如权利要求1-5任一项所述的后盖,其特征在于,所述凸起的截面呈倒梯形。

8.一种后盖的制造方法,其特征在于,包括:

在后盖玻璃面向基板的一面形成第一图案;

按照所述第一图案在后盖玻璃上形成与基板上的像素显示区矩阵对应的发光区,和在所述发光区外围的、包围所述发光区的至少一圈连续的凸起;

去除后盖玻璃上的所述第一图案。

9.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述在后盖玻璃上形成第一图案具体为:在所述后盖玻璃面向基板的一面旋涂光刻胶,曝光显影形成所述第一图案。

10.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述在后盖玻璃上形成第一图案具体为:在所述后盖玻璃面向基板的一面粘贴保护胶带,利用激光雕刻出所述第一图案。

11.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述在后盖玻璃上形成第一图案具体为:在所述后盖玻璃面向基板的一面通过丝网印刷油墨形成所述第一图案。

12.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述在后盖玻璃上形成凸起具体为:

将两片后盖玻璃未形成第一图案的一面相互贴合并封闭四周,浸入含有氟离子的酸性溶液中刻蚀形成所述凸起。

13.如权利要求8所述的方法,其特征在于,所述在后盖玻璃上形成凸起具体为:

对所述后盖玻璃带有第一图案的一面喷砂形成所述凸起。

14.如权利要求8-13任一项所述的方法,其特征在于,在所述后盖玻璃形成第一图案前或形成所述凸起后,所述方法还包括:形成位于所述发光区和所述凸起之间的凹槽。

15.如权利要求14所述的方法,其特征在于,所述凹槽的形成过程包括:

在所述后盖玻璃面向基板的一面形成第二图案;

按照所述第二图案在后盖玻璃上形成所述凹槽;

去除后盖玻璃上的所述第二图案。

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