[发明专利]排水的吸附装置

权利要求书

1.一种排水的吸附装置，其特征在于，该排水的吸附装置包括：

反应槽，其中形成有吸附剂的流化床，至少含有磷酸离子作为处理 对象物质的排水被导入到下部，以形成与排水供给或处理水排水相伴的 所述反应槽内的排水的上升流，上升的所述排水与含有水滑石粒子的吸 附剂接触，从而使所述处理对象物质吸附在所述吸附剂上；

排水供给装置，将含有所述处理对象物质的排水供给至所述反应 槽；

吸附剂投入装置，将所述吸附剂投入至所述反应槽内；

处理水排出装置，将在所述吸附剂上吸附了所述处理对象物质后的 处理水从所述反应槽排出；

吸附剂排出装置，将吸附了所述处理对象物质的吸附剂从所述反应 槽排出；以及

吸附剂流出防止装置，用于在所述排水中的处理对象物质与所述吸 附剂吸附的期间，防止所述吸附剂从所述反应槽内流出；其中，

所述吸附剂流出防止装置具有使与排水供给或处理水排水相伴的 所述反应槽内的水的流动状态发生变化的反应槽内流动状态变化装置；

其中，作为所述反应槽内流动状态变化装置，具有循环管线和循环 泵，以形成循环流，所述循环流包含方向与在所述反应槽内上升的水流 方向不同的下降流。

2.根据权利要求1所述的排水的吸附装置，其中，作为所述反应 槽内流动状态变化装置，具有挡板，该挡板配置在所述反应槽内堆积着 吸附剂的吸附剂层与所述处理水排出装置之间，以限制欲伴随着所述反 应槽内流动的水流而流出的吸附剂的移动。

3.根据权利要求1所述的排水的吸附装置，其中，作为所述反应 槽内流动状态变化装置，具有过滤膜，该过滤膜配置在所述反应槽内堆 积着吸附剂的吸附剂层与所述处理水排出装置之间，以限制欲伴随着所 述反应槽内流动的水流而流出的吸附剂的移动。

4.根据权利要求3所述的排水的吸附装置，其中，还具有用于清 洗所述过滤膜的清洗装置。

5.根据权利要求1所述的排水的吸附装置，其中，所述吸附剂是 比重超过1且平均粒径为0.1～20μm的非混合的水滑石的微粒。