[发明专利]制造衬底的方法

权利要求书

1.一种制造衬底的方法，其包含：

在衬底上形成隔开第一特征及隔开第二特征，所述第一特征及第二特征相互交替且相对于彼此隔开；

在横向修整所述隔开第二特征的宽度的同时，横向修整所述隔开第二特征的宽度到比对所述隔开第一特征的宽度的任何横向修整更大的程度；

在所述横向修整之后，在所述隔开第一特征的侧壁上及所述隔开第二特征的侧壁上形成隔片，所述隔片具有与所述隔开第一特征的组合物不同且与所述隔开第二特征的组合物不同的某组合物；

在形成所述隔片之后，从所述衬底移除所述隔开第一特征及所述隔开第二特征；及

在所述从所述衬底移除所述隔开第一特征及隔开第二特征之后，经由包含所述隔片的掩模图案处理所述衬底。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述隔开第二特征的所述形成包含在无蚀刻掩模收纳于所述衬底上的任何位置的同时蚀刻用以形成所述隔开第二特征的材料。

3.根据权利要求1所述的方法，其中形成所述隔开第二特征以包含收纳于第一材料上的第二材料，所述第一材料及第二材料具有某不同组合物。

4.根据权利要求1所述的方法，其中形成所述隔片包含沉积隔片形成层，随后接着对所述隔片形成层进行无掩模各向异性蚀刻。

5.根据权利要求1所述的方法，其中形成所述隔片包含在所述隔开第一特征及所述隔开第二特征上沉积可变材料，及用来自所述隔开第一特征的材料且用来自所述隔开第二特征的材料改变所述可变材料以形成包含所述隔片的经改变材料。

6.根据权利要求1所述的方法，其中在对所述隔开第二特征的宽度的所述横向修整期间，不发生对所述隔开第一特征的横向宽度修整。

7.根据权利要求1所述的方法，其中对所述隔开第二特征的宽度的所述横向修整包含蚀刻；且

进一步包含处理所述隔开第一特征的最外表面以提供所述隔开第一特征对所述蚀刻的抗性。

8.根据权利要求7所述的方法，其中在用以横向修整所述隔开第二特征的宽度的所述蚀刻期间，不发生对所述隔开第一特征的横向宽度修整。

9.一种制造衬底的方法，其包含：

在衬底上形成隔开第一特征；

在所述隔开第一特征上沉积第一材料，所述第一材料具有与所述隔开第一特征的组合物不同的某组合物；

在所述第一材料上沉积第二材料，所述第二材料具有与所述第一材料的组合物不同的某组合物；

移除所述第二材料的仅一部分以暴露所述第一材料，且形成收纳于所述第一材料上的隔开第二材料；

在形成所述隔开第二材料之后，从所述隔开第二材料之间蚀刻所述第一材料，且形成包含收纳于第一材料上的隔开第二材料的隔开第二特征，所述第二特征与所述第一特征隔开；

在对所述第一材料的所述蚀刻之后，横向修整所述隔开第二特征的宽度；

在所述横向修整之后，在所述隔开第一特征的侧壁上及所述隔开第二特征的侧壁上形成隔片，所述隔片具有与所述隔开第一特征的组合物不同且与所述隔开第二特征的组合物不同的某组合物；

在形成所述隔片之后，从所述衬底移除所述第一特征及所述第二特征；及

在所述从所述衬底移除所述第一特征及所述第二特征之后，经由包含所述隔片的掩模图案处理所述衬底。

10.根据权利要求9所述的方法，其中在对所述第二材料的任何移除之前所述第二材料具有平面最外表面。

11.根据权利要求9所述的方法，其中形成所述隔片包含沉积隔片形成层，随后接着对所述隔片形成层进行无掩模各向异性蚀刻。

12.根据权利要求9所述的方法，其中形成所述隔片包含在所述隔开第一特征及所述隔开第二特征上沉积可变材料，及用来自所述隔开第一特征的材料且用来自所述隔开第二特征的材料改变所述可变材料以形成包含所述隔片的经改变材料。

13.根据权利要求9所述的方法，其中所述掩模图案的所述隔片具有至少两个不同厚度。

14.根据权利要求9所述的方法，其中所述掩模图案的所述隔片包含交替第一对及第二对紧邻隔片，所述第一对的所述隔片具有第一共同厚度，且所述第二对的所述隔片具有第二共同厚度，所述第一厚度及第二厚度是不同的。