[发明专利]自稳定和抗涡动的钻头、井底组件以及使用该钻头和井底组件的系统有效
| 申请号： | 200980147753.2 | 申请日： | 2009-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN102227541A | 公开（公告）日： | 2011-10-26 |
| 发明（设计）人： | O·辛特;S·哈特;B·拉库尔;R·布阿莱格;K·豪格瓦尔德斯泰德 | 申请（专利权）人： | 普拉德研究及开发股份有限公司 |
| 主分类号： | E21B10/60 | 分类号： | E21B10/60;E21B17/10 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 蔡洪贵 |
| 地址： | 英属维尔京*** | 国省代码： | 维尔京群岛;VG |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 稳定 抗涡动 钻头 井底 组件 以及 使用 系统 | ||
1.一种钻头，包括：
与钻柱流体连通的内腔；以及
位于钻头的外部上的多个保径垫，所述保径垫中的一个或多个保径垫具有与所述内腔连通的孔眼，其中，所述钻头被构造成使流体连续地从每个孔眼流动，以提供净稳定作用。
2.如权利要求1所述的钻头，其特征在于，流体流动足以促使钻头远离井眼的壁。
3.如权利要求1所述的钻头，其特征在于，钻头包括多个具有与内腔连通的孔眼的保径垫。
4.如权利要求3所述的钻头，其特征在于，钻头包括三个具有与内腔连通的孔眼的保径垫。
5.如权利要求4所述的钻头，其特征在于，孔眼绕着钻头的外部相对于中心彼此间隔开大约120°。
6.如权利要求1所述的钻头，其特征在于，孔眼中的一个孔眼比其他孔眼具有更大的横截面积。
7.如权利要求1所述的钻头，其特征在于，所述钻头还包括：
被构造成用于调节向着一个或多个孔眼的共同的流体流动的阀。
8.如权利要求1所述的钻头，其特征在于，所述钻头还包括：
一个或多个阀，每个阀分别被构造成用于调节向着单个孔眼的流体流动。
9.一种井底组件，包括：
与钻柱流体连通的内腔；以及
位于井底组件的外部上的多个稳定垫，其中，保径垫中的至少一个或多个保径垫具有与内腔连通的孔眼，以给井底组件提供净稳定力。
10.如权利要求9所述的井底组件，其特征在于，井底组件被构造成使流体连续地从一个或多个孔眼中的每个孔眼流动。
11.如权利要求10所述的井底组件，其特征在于，流体流动足以促使钻头远离井眼的壁，从而，在井眼中稳定所述钻头。
12.如权利要求9所述的井底组件，其特征在于，井底组件包括多个具有与内腔连通的孔眼的稳定垫。
13.如权利要求12所述的井底组件，其特征在于，井底组件包括三个具有与内腔连通的孔眼的稳定垫。
14.如权利要求13所述的井底组件，其特征在于，孔眼绕着井底组件的外部相对于中心间隔开大约120°。
15.如权利要求9所述的井底组件，其特征在于，所述井底组件还包括：
被构造成用于调节向着孔眼的共同的流体流动的阀，以便为井眼内的井底组件提供净稳定作用。
16.如权利要求9所述的井底组件，其特征在于，所述井底组件还包括：
一个或多个阀，每个阀分别被构造成用于调节向着单个孔眼的流体流动，以便为井眼内的井底组件提供净稳定作用。
17.一种井场系统，包括：
钻柱；
接合到钻柱的方钻杆；以及
钻头，所述钻头包括：
与钻柱流体连通的内腔；以及
位于钻头的外部上的多个保径垫，所述保径垫中的一个或多个保径垫具有与内腔连通的孔眼，其中，钻头被构造成使流体连续地从所述孔眼中的至少一个孔眼流动，以便为井场系统提供净稳定作用。
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