[发明专利]用于控制流体温度和流动的方法和设备

权利要求书

1.一种设备，包括：

微沟槽，所述微沟槽包括壁部分、流入开口、和流出开口；以及

流体，所述流体包含组分粒子；

其中所述微沟槽被构造用于适应所述流体沿第一方向从所述流入开口到所述流出开口的流动，所述第一方向基本上垂直于所述微沟槽的横截面；并且

其中所述壁部分和所述组分粒子被构造为使得所述组分粒子和所述壁部分之间的碰撞为基本上镜面的。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述流体为气体。

3.根据权利要求2所述的设备，其中所述气体包括空气。

4.根据权利要求1所述的设备，其中所述流入开口的横截面小于所述流出开口的横截面。

5.根据权利要求1所述的设备，其中所述粒子选自分子或原子中的至少一者。

6.根据权利要求1所述的设备，其中所述横截面的至少一部分作为所述流入开口和所述流出开口之间沿所述第一方向的长度的函数变化。

7.根据权利要求6所述的设备，其中所述横截面作为所述流入开口和所述流出开口之间沿所述第一方向的长度的函数的变化为基本上线性的和基本上递增的。

8.根据权利要求6所述的设备，其中所述横截面作为所述流入开口和所述流出开口之间沿所述第一方向的长度的函数的变化在邻近所述流入开口的区域中为基本上急剧的、在邻近所述流入开口的所述区域和所述流出开口之间为基本上恒定的，并且其中邻近所述流入开口的所述区域和所述流出开口之间的所述横截面大于邻近所述流入开口的所述区域中的所述横截面。

9.根据权利要求6所述的设备，其中所述横截面作为所述流入开口和所述流出开口之间沿所述第一方向的长度的函数的变化为基本上线性的和基本上递减的。

10.根据权利要求6所述的设备，其中所述横截面作为所述流入开口和所述流出开口之间沿所述第一方向的长度的函数的变化在邻近所述流出开口的区域中为基本上急剧的、在邻近所述流出开口的所述区域和所述流入开口之间为基本上恒定的，并且其中所述流入开口和所述流出开口之间的所述横截面大于邻近所述流出开口的所述区域中的所述横截面。

11.根据权利要求7所述的设备，其中所述横截面为基本上矩形的。

12.根据权利要求8所述的设备，其中所述横截面为基本上矩形的。

13.根据权利要求9所述的设备，其中所述横截面为基本上矩形的。

14.根据权利要求10所述的设备，其中所述横截面为基本上矩形的。

15.根据权利要求7所述的设备，其中所述横截面为基本上方形的。

16.根据权利要求8所述的设备，其中所述横截面为基本上方形的。

17.根据权利要求9所述的设备，其中所述横截面为基本上方形的。

18.根据权利要求10所述的设备，其中所述横截面为基本上方形的。

19.根据权利要求7所述的设备，其中所述横截面为基本上圆形的。

20.根据权利要求8所述的设备，其中所述横截面为基本上圆形的。

21.根据权利要求9所述的设备，其中所述横截面为基本上圆形的。

22.根据权利要求10所述的设备，其中所述横截面为基本上圆形的。

23.根据权利要求7所述的设备，其中所述横截面为基本上椭圆形的。

24.根据权利要求8所述的设备，其中所述横截面为基本上椭圆形的。

25.根据权利要求9所述的设备，其中所述横截面为基本上椭圆形的。

26.根据权利要求10所述的设备，其中所述横截面为基本上椭圆形的。

27.根据权利要求6所述的设备，其中所述横截面作为所述流入开口和所述流出开口之间沿所述第一方向的长度的函数的变化在第一区域中为基本上线性的和基本上递增的并且在第二区域中为基本上线性的和基本上递减的，其中所述第一区域邻近所述流入开口并且所述第二区域邻近所述流出开口。