[发明专利]静电雾化装置及包括该装置的亲水处理装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种静电雾化装置，其生成加有静电电荷的雾化水滴以增加亲水性，本发明还涉及包括所述静电雾化装置的亲水处理装置。

背景技术

专利文献1描述了一种清洁装置，其用水清洗作物以去除作物表面上的泥土和农药之类的积聚物。所述清洁装置通过将作物放在水箱中并且搅动该水箱而去除作物表面的积聚物。

一般在售卖时柑橘属等作物上涂有蜡。由于蜡之类的积聚物的亲水性较低，因此，即使使用专利文献1所述的现有清洁装置也难以容易地清洗掉所述积聚物。此外，专利文献1所述的清洁装置体积较大，由此不适于一般家用。

因此，特别是一般家用的情况下，必须人工擦去作物表面的蜡之类的积聚物。这较耗时并且很麻烦。

[现有技术文献]

[专利文献1]第6-269267号日本专利公开

发明内容

因此，本发明提供了一种静电雾化装置，其允许容易地洗去蜡之类的低亲水性积聚物，以及一种亲水处理装置，其包括所述静电雾化装置。

本发明的一个方面提供了一种静电雾化装置，用于增加积聚在处理对象表面上的低亲水性积聚物的亲水性。所述静电雾化装置包括雾化电极，其生成加有静电电荷的雾化水滴，以增加亲水性。供水部件将水供给至所述雾化电极。加电压部件向供给至所述雾化电极的水施加电压。所述加有静电电荷的雾化水滴供给至所述处理对象。

利用所述静电雾化装置，通过将加有静电电荷的雾化水滴供给到积聚物上持续一段时间，可仅通过进行水洗而容易地去除积聚物。由于不需要特别的化学剂或较大的设备，可在一般的家庭中安全且廉价地使用所述静电雾化装置。

较佳地，静电雾化装置包括相对电极，其沿朝向处理对象的方向与雾化电极隔开。这保证能沿目标方向供给大量的加有静电电荷的雾化水滴。

为了解决上述问题，本发明提供了一种亲水处理装置，其包括静电雾化装置和容纳处理对象的容纳箱。较佳地，将用于增加亲水性的加有静电电荷的雾化水滴从静电雾化装置供给入容纳箱。

从而，通过将处理对象容纳在容纳箱中并且在这一状态下从静电雾化装置供给加有静电电荷的雾化水滴，其后可通过简单的水洗，容易地去除积聚物。由此，不需要特别的化学剂或较大的设备，容纳箱可在一般的家庭中安全且廉价地用于地下存储之类的食物存储。

较佳地，在亲水处理装置中，每秒生成0.15×10¹⁶或以上的加有静电电荷的雾化水滴。这增加了积聚物的亲水性。

亲水处理装置最好还包括清洁部件，其将清洁水供给入容纳所述处理对象的所述容纳箱，所述处理对象上所述积聚物的亲水性以增加，以对所述积聚物进行清洁处理。由此，可在处理对象容纳在容纳箱中的状态下进行亲水处理和清洁。

本发明具有这样的效果，即，通过加有静电电荷雾化水滴增加积聚物的亲水性，并且在雾化之后通过简单的水洗可容易地洗去积聚物。此外，不需要特别的化学剂或较大的设备。由此，可在一般的家庭中安全且廉价地使用所述静电雾化装置。

附图说明

图1为示出了包括根据本发明较佳实施例静电雾化装置的亲水处理装置的示意图；

图2为示出图1静电雾化装置之结构的剖视图；

图3为示出使用图1静电雾化装置之试验的示意图；

图4为示出图3试验结果的图表；

图5为示出使用图1静电雾化装置的另一试验的示意图；

图6为示出图5试验结果的图表；

图7为示出图5试验结果的图表，其中图7(a)示出了蜡的残留量，图7(b)示出了抑霉唑(imazalil)的残留量，图7(c)示出了噻苯咪唑(TBZ)；

图8为示出使用图1静电雾化装置的另一试验的示意图；

图9为示出图8试验结果的图表；

图10为示出图8试验结果的图表；及

图11为比较多种蜡的IR结果的图表。

具体实施方式

现参考附图描述本发明的较佳实施例。图1示出了根据本发明实施例中的亲水处理装置B的实施例。

亲水处理装置B包括静电雾化装置A、容纳处理对象1的容纳箱2、及清洁部件3，静电雾化装置A通过静电雾化现象生成并且供给大量加有静电电荷的雾化水滴，清洁部件3对容纳在容纳箱2中的处理对象1进行清洁处理。现详细描述所有这些组件。